一种硅片表面氧化的装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201621436574.4

申请日：

2016-12-26

公开(公告)号：

CN206432239U

公开(公告)日：

2017-08-22

发明(设计)人：

陈伟孔群杨玉生姜春潮

申请人：

申请人地址：

213000 江苏省常州市武进区邹区镇会灵西路69号

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

南京钟山专利代理有限公司 32252

代理人：

倪青华

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-04	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20161226 授权公告日:20170822 终止日期:20191226
2017-08-22	授权	授权

共 50 条

[1]

一种硅片表面氧化系统及方法 [P].

邵玉林 ;

陶俊 ;

石烨炜 ;

陈磊 .

中国专利 :CN109698256A ,2019-04-30

[2]

一种用于硅片的表面清洗装置 [P].

雷杰 ;

周炜 ;

王庆钱 ;

杨大谊 ;

周璁 .

中国专利 :CN214022332U ,2021-08-24

[3]

一种去除硅片表面二氧化硅膜的装置 [P].

刘九江 ;

刘顺玲 ;

李诺 ;

谭咏麟 .

中国专利 :CN209418462U ,2019-09-20

[4]

一种用于硅片表面制样前的表面腐蚀装置 [P].

盛方毓 ;

程凤伶 ;

刘斌 ;

肖清华 .

中国专利 :CN205248242U ,2016-05-18

[5]

一种用于改进硅片表面制样的化学试剂的制取装置 [P].

盛方毓 ;

闫志瑞 ;

冯泉林 ;

赵而敬 ;

李宗峰 .

中国专利 :CN203128192U ,2013-08-14

[6]

一种硅片表面研磨装置 [P].

蒋永锋 ;

易恬安 ;

包晔峰 ;

陈秉岩 .

中国专利 :CN110911314A ,2020-03-24

[7]

一种硅片表面清洁装置 [P].

刘磊 ;

王小波 ;

郑强 .

中国专利 :CN216460370U ,2022-05-10

[8]

一种硅片表面处理装置 [P].

耿伟 ;

顾少俊 ;

张西东 ;

周航 .

中国专利 :CN218363748U ,2023-01-24

[9]

一种硅片表面清理装置 [P].

赵智亮 ;

高开中 ;

李德刚 .

中国专利 :CN221335559U ,2024-07-16

[10]

一种硅片表面清洗装置 [P].

陈锋 ;

沈国君 ;

陆勇 ;

刘太盛 .

中国专利 :CN214378342U ,2021-10-08

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