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一种硅片表面清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202120151604.1
申请日
:
2021-01-20
公开(公告)号
:
CN214378342U
公开(公告)日
:
2021-10-08
发明(设计)人
:
陈锋
沈国君
陆勇
刘太盛
申请人
:
申请人地址
:
324300 浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路5号
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L3118
代理机构
:
温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390
代理人
:
钱磊
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-30
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20210120 授权公告日:20211008 终止日期:20220120
2021-10-08
授权
授权
共 50 条
[1]
一种硅片表面自动清洗装置
[P].
李国刚
论文数:
0
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0
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李国刚
.
中国专利
:CN206340527U
,2017-07-18
[2]
一种硅片表面污染清洗装置
[P].
郑松
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机构:
安徽晶天新能源科技有限责任公司
安徽晶天新能源科技有限责任公司
郑松
;
余江湖
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机构:
安徽晶天新能源科技有限责任公司
安徽晶天新能源科技有限责任公司
余江湖
;
刘君
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机构:
安徽晶天新能源科技有限责任公司
安徽晶天新能源科技有限责任公司
刘君
.
中国专利
:CN223405526U
,2025-10-03
[3]
一种用于硅片的表面清洗装置
[P].
雷杰
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雷杰
;
周炜
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周炜
;
王庆钱
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王庆钱
;
杨大谊
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杨大谊
;
周璁
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周璁
.
中国专利
:CN214022332U
,2021-08-24
[4]
硅片表面清洗装置
[P].
黄于于
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黄于于
.
中国专利
:CN207250472U
,2018-04-17
[5]
一种硅片表面自动清洗装置
[P].
李国刚
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李国刚
.
中国专利
:CN106783689A
,2017-05-31
[6]
一种硅片生产用清洗装置
[P].
方勇华
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方勇华
;
詹玉峰
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詹玉峰
;
陈跃华
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陈跃华
;
方萌
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方萌
.
中国专利
:CN214321058U
,2021-10-01
[7]
一种硅片清洗装置
[P].
高鹏
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高鹏
;
王岩
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王岩
;
王永青
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王永青
;
李建弘
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李建弘
;
王建平
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王建平
;
郭志荣
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郭志荣
;
王冬雪
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王冬雪
.
中国专利
:CN207254859U
,2018-04-20
[8]
一种硅片清洗装置
[P].
刘园
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刘园
;
袁祥龙
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袁祥龙
;
赵洋
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赵洋
;
武卫
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武卫
;
刘建伟
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刘建伟
;
祝斌
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祝斌
;
刘姣龙
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刘姣龙
;
裴坤羽
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裴坤羽
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孙晨光
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孙晨光
;
王彦君
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王彦君
;
张宏杰
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张宏杰
;
由佰玲
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由佰玲
;
常雪岩
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常雪岩
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杨春雪
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杨春雪
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谢艳
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谢艳
;
刘秒
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刘秒
;
吕莹
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吕莹
;
徐荣清
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徐荣清
.
中国专利
:CN218191339U
,2023-01-03
[9]
一种硅片清洗装置
[P].
葛正浩
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葛正浩
;
魏林林
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魏林林
;
白鹏虞
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白鹏虞
.
中国专利
:CN210497454U
,2020-05-12
[10]
一种硅片清洗装置
[P].
房利
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房利
.
中国专利
:CN205289078U
,2016-06-08
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