图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710795277.1

申请日：

2017-09-06

公开(公告)号：

CN107807495B

公开(公告)日：

2018-03-16

发明(设计)人：

水野博文茂野幸英植村春生

申请人：

申请人地址：

日本京都府京都市

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

向勇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-03-16	公开	公开
2020-04-17	授权	授权
2018-04-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20170906

共 50 条

[1]

曝光光学系统、曝光头以及曝光装置 [P].

小森一树 .

中国专利 :CN105074573A ,2015-11-18

[2]

曝光装置以及曝光方法 [P].

大塚明 .

中国专利 :CN107430353A ,2017-12-01

[3]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[4]

图案曝光方法及图案曝光装置 [P].

杉本重人 .

中国专利 :CN111263919B ,2020-06-09

[5]

曝光头以及曝光装置 [P].

砂川宽 ;

石川弘美 ;

冈崎洋二 ;

永野和彦 ;

藤井武 ;

大森利彦 .

中国专利 :CN1297836C ,2004-01-14

[6]

曝光装置、图案形成装置以及曝光方法 [P].

张劬 ;

铃木彻 ;

冢原刚 ;

涉谷恭平 .

中国专利 :CN113495437A ,2021-10-12

[7]

曝光头以及曝光装置 [P].

冈崎洋二 ;

石川弘美 ;

永野和彦 .

中国专利 :CN100338490C ,2003-12-03

[8]

图案曝光装置、曝光方法、以及器件制造方法 [P].

加藤正纪 ;

长谷川启佑 ;

中岛利治 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117561482A ,2024-02-13

[9]

图案曝光装置 [P].

加藤正纪 .

中国专利 :CN110095862A ,2019-08-06

[10]

曝光装置 [P].

松永真一 .

日本专利 :CN118689041A ,2024-09-24

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