曝光头以及曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03136897.2

申请日：

2003-05-23

公开(公告)号：

CN100338490C

公开(公告)日：

2003-12-03

发明(设计)人：

冈崎洋二石川弘美永野和彦

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G02B642

IPC分类号：

G03F720 G02B636 H01S500

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

戎志敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-19	授权	授权
2007-09-26	专利申请权、专利权的转移专利权的转移	专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更事项:专利权人变更前权利人:富士胶片控股株式会社变更后权利人:富士胶片株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都变更后权利人:日本国东京都登记生效日:20070817
2007-09-26	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更变更事项:专利权人变更前:富士胶片株式会社变更后:富士胶片控股株式会社变更事项:地址变更前:日本神奈川县变更后:日本国东京都
2004-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2014-03-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101698799570 IPC(主分类):G02B 6/42 专利号:ZL031368972 变更事项:专利权人变更前权利人:富士胶片株式会社变更后权利人:亚得科技工程有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都变更后权利人:日本国东京都登记生效日:20140224
2003-12-03	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光头以及曝光装置 [P].

砂川宽 ;

石川弘美 ;

冈崎洋二 ;

永野和彦 ;

藤井武 ;

大森利彦 .

中国专利 :CN1297836C ,2004-01-14

[2]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[3]

图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法 [P].

水野博文 ;

茂野幸英 ;

植村春生 .

中国专利 :CN107807495B ,2018-03-16

[4]

曝光头和曝光装置 [P].

梶山康一 ;

水村通伸 .

中国专利 :CN104169798A ,2014-11-26

[5]

曝光光学系统、曝光头以及曝光装置 [P].

小森一树 .

中国专利 :CN105074573A ,2015-11-18

[6]

曝光头、曝光装置及用于操作曝光头的方法 [P].

雅各布斯·许贝特斯·特奥多尔·贾马尔 ;

赫曼·亨德里克斯·马尔德林克 ;

欧文·里纳尔多·迈因德斯 ;

彼得·特奥多鲁斯·马里亚·吉森 ;

欧文·约翰·范·茨韦特 ;

亨利·雅克·安托万·琼·斯塔曼斯 .

中国专利 :CN106537224A ,2017-03-22

[7]

曝光头及曝光装置和它的应用 [P].

石川弘美 ;

永野和彦 ;

冈崎洋二 ;

藤井武 ;

山川博充 .

中国专利 :CN1659479A ,2005-08-24

[8]

光头、曝光装置以及图像形成装置 [P].

藤川绅介 .

中国专利 :CN101172427B ,2008-05-07

[9]

曝光方法以及曝光装置 [P].

滨崎正和 .

中国专利 :CN111522204A ,2020-08-11

[10]

曝光方法以及曝光装置 [P].

侯广杰 ;

叶小龙 ;

王栋 ;

谢超 .

中国专利 :CN113703280A ,2021-11-26

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