曝光头、曝光装置及用于操作曝光头的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580019727.7

申请日：

2015-04-14

公开(公告)号：

CN106537224A

公开(公告)日：

2017-03-22

发明(设计)人：

雅各布斯·许贝特斯·特奥多尔·贾马尔赫曼·亨德里克斯·马尔德林克欧文·里纳尔多·迈因德斯彼得·特奥多鲁斯·马里亚·吉森欧文·约翰·范·茨韦特亨利·雅克·安托万·琼·斯塔曼斯

申请人：

申请人地址：

荷兰海牙

IPC主分类号：

G02B2608

IPC分类号：

G02B2612 G03F720

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

梁丽超;陈鹏

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

曝光头和曝光装置 [P].

梶山康一 ;

水村通伸 .

中国专利 :CN104169798A ,2014-11-26

[2]

曝光头以及曝光装置 [P].

砂川宽 ;

石川弘美 ;

冈崎洋二 ;

永野和彦 ;

藤井武 ;

大森利彦 .

中国专利 :CN1297836C ,2004-01-14

[3]

曝光头以及曝光装置 [P].

冈崎洋二 ;

石川弘美 ;

永野和彦 .

中国专利 :CN100338490C ,2003-12-03

[4]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[5]

图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法 [P].

水野博文 ;

茂野幸英 ;

植村春生 .

中国专利 :CN107807495B ,2018-03-16

[6]

曝光头及曝光装置和它的应用 [P].

石川弘美 ;

永野和彦 ;

冈崎洋二 ;

藤井武 ;

山川博充 .

中国专利 :CN1659479A ,2005-08-24

[7]

曝光光学系统、曝光头以及曝光装置 [P].

小森一树 .

中国专利 :CN105074573A ,2015-11-18

[8]

曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统 [P].

奥山隆志 .

中国专利 :CN106873311B ,2017-06-20

[9]

光线收集透镜、曝光光学系统、曝光头及曝光装置 [P].

周礼书 ;

霍永峰 .

中国专利 :CN205563074U ,2016-09-07

[10]

光线收集透镜、曝光光学系统、曝光头及曝光装置 [P].

周礼书 ;

霍永峰 .

中国专利 :CN105676598A ,2016-06-15

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-03-22	公开	公开
2019-11-26	授权	授权
2017-04-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101714011167 IPC(主分类):G02B 26/08 专利申请号:2015800197277 申请日:20150414