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曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201610971760.6
申请日：
2016-10-28
公开(公告)号：
CN106873311B
公开(公告)日：
2017-06-20
发明(设计)人：
奥山隆志
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
李辉;金玲
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-04 | 授权 | 授权 |
| 2018-11-13 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20161028 |
| 2017-06-20 | 公开 | 公开 |