曝光装置以及曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680018422.9

申请日：

2016-02-19

公开(公告)号：

CN107430353A

公开(公告)日：

2017-12-01

发明(设计)人：

大塚明

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B300 G02B1900 G02B2602

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

徐殿军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160219
2020-04-28	授权	授权
2017-12-01	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光光学系统、曝光头以及曝光装置 [P].

小森一树 .

中国专利 :CN105074573A ,2015-11-18

[2]

图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法 [P].

水野博文 ;

茂野幸英 ;

植村春生 .

中国专利 :CN107807495B ,2018-03-16

[3]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[4]

投影曝光装置 [P].

石川弘美 .

中国专利 :CN1550874A ,2004-12-01

[5]

曝光设备和曝光方法 [P].

冈崎洋二 ;

石川弘美 .

中国专利 :CN101142534A ,2008-03-12

[6]

曝光装置 [P].

松永真一 .

日本专利 :CN118689041A ,2024-09-24

[7]

曝光装置和曝光方法 [P].

佐治伸仁 ;

小林健一 ;

原田种真 ;

桐生恭孝 ;

小柳秀昭 ;

今井克喜 ;

长谷川一也 .

中国专利 :CN102854753A ,2013-01-02

[8]

曝光装置 [P].

高田伦久 .

中国专利 :CN100342261C ,2004-09-29

[9]

曝光装置以及曝光方法 [P].

西健尔 ;

太田和哉 .

中国专利 :CN1244019C ,2001-11-21

[10]

曝光装置以及曝光方法 [P].

加藤正纪 ;

小山元夫 .

中国专利 :CN1432874A ,2003-07-30

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