投影曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410042263.5

申请日：

2004-05-08

公开(公告)号：

CN1550874A

公开(公告)日：

2004-12-01

发明(设计)人：

石川弘美

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03B2732

IPC分类号：

G02F100 G02B300

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-12-01	公开	公开
2009-04-22	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-01	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:富士胶片控股株式会社变更后权利人:富士胶片株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都登记生效日:20070629
2006-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

曝光装置以及曝光方法 [P].

大塚明 .

中国专利 :CN107430353A ,2017-12-01

[2]

投影曝光装置 [P].

石川弘美 ;

西畑纯弘 .

中国专利 :CN1550876A ,2004-12-01

[3]

投影曝光装置 [P].

石川弘美 ;

大场昌宏 ;

高田伦久 ;

兴梠裕 .

中国专利 :CN1550875A ,2004-12-01

[4]

图案曝光装置、曝光头以及图案曝光方法 [P].

水野博文 ;

茂野幸英 ;

植村春生 .

中国专利 :CN107807495B ,2018-03-16

[5]

曝光光学系统、曝光头以及曝光装置 [P].

小森一树 .

中国专利 :CN105074573A ,2015-11-18

[6]

投影曝光装置 [P].

水村通伸 .

中国专利 :CN107111252A ,2017-08-29

[7]

投影曝光装置 [P].

刘雅丽 .

中国专利 :CN104570610B ,2015-04-29

[8]

曝光装置 [P].

松永真一 .

日本专利 :CN118689041A ,2024-09-24

[9]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1324342C ,2003-10-29

[10]

投影曝光装置以及投影曝光方法 [P].

榎本芳幸 .

日本专利 :CN116171406B ,2025-09-16

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