投影曝光装置以及投影曝光方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202180062968.5
申请日
2021-08-20
公开(公告)号
CN116171406B
公开(公告)日
2025-09-16
发明(设计)人
榎本芳幸
申请人
株式会社V技术
申请人地址
日本神奈川
IPC主分类号
G03F9/00
IPC分类号
代理机构
北京奉思知识产权代理有限公司 11464
代理人
邹轶鲛;邵佳元
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
投影曝光装置及投影曝光方法 [P]. 
小谷秀人 ;
田中良和 ;
大庭隆正 .
中国专利 :CN109154785A ,2019-01-04
[2]
投影曝光装置、投影曝光方法以及掩模版 [P]. 
中泽朗 .
中国专利 :CN106483773A ,2017-03-08
[3]
投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 [P]. 
饭塚和央 ;
磯端纯二 ;
田中信义 .
中国专利 :CN100343759C ,2004-08-11
[4]
投影曝光装置 [P]. 
佐藤仁 ;
山贺胜 ;
中泽朗 ;
工藤巧裁 ;
中本裕见 .
中国专利 :CN101286012A ,2008-10-15
[5]
投影曝光装置 [P]. 
石川弘美 .
中国专利 :CN1550874A ,2004-12-01
[6]
投影曝光装置 [P]. 
伊藤公一 .
中国专利 :CN101114132A ,2008-01-30
[7]
投影曝光装置 [P]. 
中本裕见 .
中国专利 :CN103098171B ,2013-05-08
[8]
投影曝光装置 [P]. 
刘雅丽 .
中国专利 :CN104570610B ,2015-04-29
[9]
投影曝光装置 [P]. 
石川弘美 ;
西畑纯弘 .
中国专利 :CN1550876A ,2004-12-01
[10]
投影曝光装置 [P]. 
佐藤仁 ;
中泽朗 ;
百濑克己 .
中国专利 :CN101063826A ,2007-10-31