投影曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710138627.3

申请日：

2007-07-24

公开(公告)号：

CN101114132A

公开(公告)日：

2008-01-30

发明(设计)人：

伊藤公一

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

徐殿军

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-05-12	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101001340121 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2007101386273 申请公布日:20080130
2008-01-30	公开	公开

共 50 条

[1]

投影曝光装置以及投影曝光方法 [P].

榎本芳幸 .

日本专利 :CN116171406B ,2025-09-16

[2]

投影曝光装置及投影曝光方法 [P].

小谷秀人 ;

田中良和 ;

大庭隆正 .

中国专利 :CN109154785A ,2019-01-04

[3]

投影曝光装置 [P].

佐藤仁 ;

山贺胜 ;

中泽朗 ;

工藤巧裁 ;

中本裕见 .

中国专利 :CN101286012A ,2008-10-15

[4]

投影曝光装置 [P].

石川弘美 .

中国专利 :CN1550874A ,2004-12-01

[5]

投影曝光装置 [P].

中本裕见 .

中国专利 :CN103098171B ,2013-05-08

[6]

投影曝光装置 [P].

刘雅丽 .

中国专利 :CN104570610B ,2015-04-29

[7]

投影曝光装置 [P].

石川弘美 ;

西畑纯弘 .

中国专利 :CN1550876A ,2004-12-01

[8]

投影曝光装置 [P].

佐藤仁 ;

中泽朗 ;

百濑克己 .

中国专利 :CN101063826A ,2007-10-31

[9]

投影曝光装置 [P].

石川弘美 ;

大场昌宏 ;

高田伦久 ;

兴梠裕 .

中国专利 :CN1550875A ,2004-12-01

[10]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

小松田秀基 ;

高桥友刀 ;

铃木雅之 .

中国专利 :CN1954406A ,2007-04-25

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