投影曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180043551.0

申请日：

2011-06-23

公开(公告)号：

CN103098171B

公开(公告)日：

2013-05-08

发明(设计)人：

中本裕见

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

李辉;黄纶伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-08	公开	公开
2016-01-20	授权	授权
2013-09-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101515921929 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:2011800435510 申请日:20110623

共 50 条

[1]

投影曝光装置及投影曝光方法 [P].

小谷秀人 ;

田中良和 ;

大庭隆正 .

中国专利 :CN109154785A ,2019-01-04

[2]

投影曝光装置 [P].

佐藤仁 ;

山贺胜 ;

中泽朗 ;

工藤巧裁 ;

中本裕见 .

中国专利 :CN101286012A ,2008-10-15

[3]

投影曝光装置 [P].

中本裕见 ;

山贺胜 ;

佐藤仁 ;

高桥一雄 .

中国专利 :CN101546132B ,2009-09-30

[4]

投影曝光装置 [P].

佐藤仁 ;

中泽朗 ;

百濑克己 .

中国专利 :CN101063826A ,2007-10-31

[5]

曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统 [P].

奥山隆志 .

中国专利 :CN106873311B ,2017-06-20

[6]

投影光学系统、曝光装置以及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1745457A ,2006-03-08

[7]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN1324342C ,2003-10-29

[8]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216599A ,2008-07-09

[9]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216598A ,2008-07-09

[10]

投影光学系统、曝光装置及曝光方法 [P].

大村泰弘 .

中国专利 :CN101216682A ,2008-07-09

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