图案形成方法、带有透明导电膜的基材、装置和电子设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580034118.9

申请日：

2015-06-25

公开(公告)号：

CN106457297A

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

新妻直人大屋秀信山内正好小俣猛宪

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B05D126

IPC分类号：

B05D302 H01B514 H01B1300

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

苗堃;赵雁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-22	公开	公开
2017-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101708561308 IPC(主分类):B05D 1/26 专利申请号:2015800341189 申请日:20150625
2019-11-01	授权	授权

共 50 条

[1]

图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 ;

小俣猛宪 .

中国专利 :CN107249759B ,2017-10-13

[2]

涂膜形成方法、带透明导电膜的基材、器件和电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

牛久正幸 ;

山内正好 .

中国专利 :CN105377449B ,2016-03-02

[3]

图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子机器 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 .

中国专利 :CN106413917A ,2017-02-15

[4]

透明导电膜的图案形成方法 [P].

宫川拓也 .

中国专利 :CN1265398C ,2004-12-01

[5]

导电图案的形成方法、导电膜、导电图案及透明导电膜 [P].

郑光春 ;

柳志勋 ;

李仁淑 ;

成俊基 ;

韩大尚 .

中国专利 :CN104919572B ,2015-09-16

[6]

透明导电膜和包括该透明导电膜的电子设备 [P].

洪钟昊 ;

朴源祥 ;

林载翊 ;

秋惠容 ;

金大亨 ;

孙东熙 ;

宋俊杰 .

中国专利 :CN107305928A ,2017-10-31

[7]

包含导电性材料的平行线图案、平行线图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件以及电子设备 [P].

大屋秀信 ;

牛久正幸 ;

山内正好 ;

新妻直人 .

中国专利 :CN104584142B ,2015-04-29

[8]

发光装置及其制造方法、透明导电膜的形成方法及电子设备 [P].

和泉康治 .

中国专利 :CN102544293A ,2012-07-04

[9]

透明导电膜、带有透明导电膜的基材及其制备方法 [P].

辻本光 ;

忠政明彦 ;

松井太佑 ;

安原绘理 .

中国专利 :CN103460304A ,2013-12-18

[10]

透明导电层图案的形成方法 [P].

山崎嘉一 ;

早川智 ;

宫本雅史 .

中国专利 :CN102576582A ,2012-07-11

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