图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子机器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580005367.5

申请日：

2015-01-23

公开(公告)号：

CN106413917A

公开(公告)日：

2017-02-15

发明(设计)人：

新妻直人大屋秀信山内正好

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B05D126

IPC分类号：

H01B514 H01B1300 H05K310

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

张涛

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-03-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101707258903 IPC(主分类):B05D 1/26 专利申请号:2015800053675 申请日:20150123
2017-02-15	公开	公开
2019-08-30	授权	授权

共 50 条

[1]

图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 ;

小俣猛宪 .

中国专利 :CN107249759B ,2017-10-13

[2]

涂膜形成方法、带透明导电膜的基材、器件和电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

牛久正幸 ;

山内正好 .

中国专利 :CN105377449B ,2016-03-02

[3]

导电图案的形成方法、导电膜、导电图案及透明导电膜 [P].

郑光春 ;

柳志勋 ;

李仁淑 ;

成俊基 ;

韩大尚 .

中国专利 :CN104919572B ,2015-09-16

[4]

图案形成方法、带有透明导电膜的基材、装置和电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 ;

小俣猛宪 .

中国专利 :CN106457297A ,2017-02-22

[5]

透明导电膜的图案形成方法 [P].

宫川拓也 .

中国专利 :CN1265398C ,2004-12-01

[6]

包含导电性材料的平行线图案、平行线图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件以及电子设备 [P].

大屋秀信 ;

牛久正幸 ;

山内正好 ;

新妻直人 .

中国专利 :CN104584142B ,2015-04-29

[7]

透明导电层图案的形成方法 [P].

山崎嘉一 ;

早川智 ;

宫本雅史 .

中国专利 :CN102576582A ,2012-07-11

[8]

导电膜图案及其形成方法、配线基片、电子器件、机器及介质 [P].

古沢昌宏 ;

桥本贵志 .

中国专利 :CN1234152C ,2003-10-29

[9]

透明导电成膜及透明导电图案的制造方法 [P].

山木繁 .

中国专利 :CN109564803A ,2019-04-02

[10]

透明导电图案的形成方法、导电膜基板及制造方法 [P].

山崎宏 ;

五十岚由三 .

中国专利 :CN108008602A ,2018-05-08

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