涂膜形成方法、带透明导电膜的基材、器件和电子设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480039215.2

申请日：

2014-07-10

公开(公告)号：

CN105377449B

公开(公告)日：

2016-03-02

发明(设计)人：

新妻直人大屋秀信牛久正幸山内正好

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B05D126

IPC分类号：

B05D512 B05D700 H01B514 H05K310

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

苗堃;赵曦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-02	公开	公开
2018-09-04	授权	授权
2016-03-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101652512448 IPC(主分类):B05D 1/26 专利申请号:2014800392152 申请日:20140710

共 50 条

[1]

图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 ;

小俣猛宪 .

中国专利 :CN107249759B ,2017-10-13

[2]

图案形成方法、带有透明导电膜的基材、装置和电子设备 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 ;

小俣猛宪 .

中国专利 :CN106457297A ,2017-02-22

[3]

图案形成方法、带透明导电膜的基材、器件及电子机器 [P].

新妻直人 ;

大屋秀信 ;

山内正好 .

中国专利 :CN106413917A ,2017-02-15

[4]

透明导电膜和包括该透明导电膜的电子设备 [P].

洪钟昊 ;

朴源祥 ;

林载翊 ;

秋惠容 ;

金大亨 ;

孙东熙 ;

宋俊杰 .

中国专利 :CN107305928A ,2017-10-31

[5]

透明导电膜的形成方法 [P].

高桥明久 ;

石桥晓 ;

杉浦功 ;

高泽悟 .

中国专利 :CN101680079B ,2010-03-24

[6]

透明导电膜的形成方法 [P].

辻稔夫 ;

伊藤博人 ;

清村贵利 .

中国专利 :CN1312319C ,2003-06-11

[7]

透明导电膜的形成方法 [P].

浮岛祯之 ;

竹井日出夫 ;

石桥晓 ;

厚木勉 ;

小田正明 ;

山口浩史 .

中国专利 :CN100449652C ,2006-01-18

[8]

透明导电膜及电子设备 [P].

戴叶 ;

方运 ;

周菲 ;

洪莘 ;

莫小凤 ;

周文泣 ;

徐章鹏 ;

郑亚星 .

中国专利 :CN203733489U ,2014-07-23

[9]

透明导电膜及电子设备 [P].

郑亚星 ;

周文泣 ;

戴叶 ;

莫小凤 .

中国专利 :CN105448385A ,2016-03-30

[10]

透明导电膜及电子设备 [P].

戴叶 ;

方运 ;

周菲 ;

洪莘 ;

莫小凤 ;

周文泣 ;

徐章鹏 ;

郑亚星 .

中国专利 :CN104882191A ,2015-09-02

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