基于氮化镓衬底的渐变铝组分铝镓氮MOSFET及制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110845118.4
申请日
2021-07-26
公开(公告)号
CN113611734A
公开(公告)日
2021-11-05
发明(设计)人
周弘 王捷英 张进成 刘志宏 许晟瑞 郝跃
申请人
申请人地址
710071 陕西省西安市太白南路2号
IPC主分类号
H01L2906
IPC分类号
H01L2920 H01L21336 H01L2978
代理机构
陕西电子工业专利中心 61205
代理人
王品华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于铝组分渐变帽层的氮化镓器件 [P]. 
崔鹏 ;
张铁瀛 ;
韩吉胜 ;
汉多科·林纳威赫 ;
徐现刚 .
中国专利 :CN118380460B ,2024-09-27
[2]
一种基于铝组分渐变帽层的氮化镓器件 [P]. 
崔鹏 ;
张铁瀛 ;
韩吉胜 ;
汉多科·林纳威赫 ;
徐现刚 .
中国专利 :CN118380460A ,2024-07-23
[3]
基于氮化镓/铝镓氮/氮化镓异质结的温度传感器及其制备方法 [P]. 
于洪宇 ;
孙宇涵 ;
蒋玉龙 .
中国专利 :CN120970836A ,2025-11-18
[4]
氮化镓衬底以及氮化镓衬底测试及制造方法 [P]. 
八乡昭广 .
中国专利 :CN100580909C ,2007-09-19
[5]
铝镓氮材料及其制备方法 [P]. 
孙兆兰 ;
杨静 ;
赵德刚 ;
梁锋 ;
刘宗顺 ;
陈平 ;
张宇恒 .
中国专利 :CN119153316A ,2024-12-17
[6]
一种基于氮化镓/铝镓氮异质结的磁场传感器 [P]. 
万景 ;
刘冉 ;
叶怀宇 ;
张国旗 .
中国专利 :CN110783450A ,2020-02-11
[7]
制备用于生长氮化镓的衬底和制备氮化镓衬底的方法 [P]. 
金容进 ;
金知勋 ;
李东键 ;
金杜洙 ;
李浩准 .
中国专利 :CN101388338B ,2009-03-18
[8]
同质外延氮化镓衬底处理方法及氮化镓衬底 [P]. 
王元刚 ;
冯志红 ;
吕元杰 ;
张志荣 ;
周幸叶 ;
谭鑫 ;
宋旭波 ;
梁士雄 .
中国专利 :CN110797259B ,2020-02-14
[9]
一种基于氮化镓/铝镓氮异质结的电压传感器及制备方法 [P]. 
万景 ;
刘冉 ;
叶怀宇 ;
张国旗 .
中国专利 :CN112968001A ,2021-06-15
[10]
高效制备氮化镓衬底的方法 [P]. 
修向前 ;
李悦文 ;
张荣 ;
谢自力 ;
陈鹏 ;
刘斌 ;
郑有炓 ;
李红梅 .
中国专利 :CN112259446A ,2021-01-22