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在线监测薄膜、镀膜及涂布膜膜层厚度均匀性的装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN00224940.5
申请日
:
2000-06-02
公开(公告)号
:
CN2435740Y
公开(公告)日
:
2001-06-20
发明(设计)人
:
唐能诚
胡建河
申请人
:
申请人地址
:
410004湖南省长沙市里仁巷2号东门403室
IPC主分类号
:
G01N2189
IPC分类号
:
B05C1102
代理机构
:
湖南省专利服务中心
代理人
:
罗建民
法律状态
:
专利权的终止未缴年费专利权终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2004-08-04
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2001-06-20
授权
授权
共 50 条
[1]
光学膜层厚度均匀性的监测方法
[P].
陈卿峰
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陈卿峰
;
万仁文
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万仁文
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杜振宇
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杜振宇
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郑谨绪
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郑谨绪
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郑世璋
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郑世璋
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杨智宏
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杨智宏
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郑孟杰
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郑孟杰
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彭中宏
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彭中宏
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蔡淑芬
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蔡淑芬
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吕志宏
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吕志宏
.
中国专利
:CN1752713A
,2006-03-29
[2]
膜层厚度均匀性的检测方法
[P].
董俊
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董俊
;
张顾斌
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张顾斌
;
王雷
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王雷
.
中国专利
:CN113628985A
,2021-11-09
[3]
一种铀层厚度均匀性测算方法及铀层厚度均匀性测量装置
[P].
李彪
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
李彪
;
邓鹏
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
邓鹏
;
昌正科
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
昌正科
;
刘东旭
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
刘东旭
;
李宝成
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
李宝成
;
刘素志
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
刘素志
;
吴华剑
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
吴华剑
;
黄国良
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
黄国良
;
李志军
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中核控制系统工程有限公司
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李志军
;
靳占刚
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
靳占刚
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王斌
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
王斌
;
唐云鹏
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中核控制系统工程有限公司
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唐云鹏
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张霞
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
张霞
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李晨丽
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中核控制系统工程有限公司
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李晨丽
;
苏杨
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
苏杨
.
中国专利
:CN119665878A
,2025-03-21
[4]
薄膜厚度均匀性的改善装置
[P].
袁益凯
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袁益凯
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吴俊英
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吴俊英
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徐斌
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徐斌
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袁建
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袁建
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章峻
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章峻
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庄志磊
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庄志磊
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周燕
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周燕
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刘云辉
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刘云辉
.
中国专利
:CN210552545U
,2020-05-19
[5]
一种薄膜厚度及均匀性在线检测装置及方法
[P].
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机构:
张宇
.
中国专利
:CN117629085A
,2024-03-01
[6]
非均匀膜层产品的镀膜设备
[P].
徐佳霖
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徐佳霖
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龙家勇
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龙家勇
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李景薇
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李景薇
.
中国专利
:CN208949402U
,2019-06-07
[7]
优化硅膜厚度均匀性的模具形状
[P].
G·B·库克
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G·B·库克
;
P·马宗达
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P·马宗达
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B·苏曼
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B·苏曼
.
中国专利
:CN103025925A
,2013-04-03
[8]
一种检测双层膜的各膜层厚度均匀性的方法
[P].
李定
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华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
李定
;
李钱陶
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华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
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李钱陶
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熊长新
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华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
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熊长新
;
郝力凯
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华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
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郝力凯
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金天义
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华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
金天义
.
中国专利
:CN114264240B
,2024-03-22
[9]
一种检测双层膜的各膜层厚度均匀性的方法
[P].
李定
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李定
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李钱陶
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李钱陶
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熊长新
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熊长新
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郝力凯
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郝力凯
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金天义
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金天义
.
中国专利
:CN114264240A
,2022-04-01
[10]
溅射薄膜的厚度均匀性修正装置
[P].
张平
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张平
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周瑞山
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周瑞山
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谢强
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谢强
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殷志茹
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殷志茹
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张敏
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张敏
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罗向阳
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罗向阳
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龚漫莉
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龚漫莉
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叶萍
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叶萍
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张青
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张青
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张铎
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王倩
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王倩
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龚国刚
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龚国刚
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中国专利
:CN201212059Y
,2009-03-25
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