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膜层厚度均匀性的检测方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110775123.2
申请日
:
2021-07-07
公开(公告)号
:
CN113628985A
公开(公告)日
:
2021-11-09
发明(设计)人
:
董俊
张顾斌
王雷
申请人
:
申请人地址
:
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号
:
H01L2166
IPC分类号
:
H01L218249
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
罗雅文
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-09
公开
公开
2021-11-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20210707
共 50 条
[1]
一种检测双层膜的各膜层厚度均匀性的方法
[P].
李定
论文数:
0
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机构:
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
李定
;
李钱陶
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机构:
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
李钱陶
;
熊长新
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机构:
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
熊长新
;
郝力凯
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机构:
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
郝力凯
;
金天义
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机构:
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
金天义
.
中国专利
:CN114264240B
,2024-03-22
[2]
一种检测双层膜的各膜层厚度均匀性的方法
[P].
李定
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李定
;
李钱陶
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李钱陶
;
熊长新
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熊长新
;
郝力凯
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郝力凯
;
金天义
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金天义
.
中国专利
:CN114264240A
,2022-04-01
[3]
光学膜层厚度均匀性的监测方法
[P].
陈卿峰
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陈卿峰
;
万仁文
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万仁文
;
杜振宇
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杜振宇
;
郑谨绪
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郑谨绪
;
郑世璋
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郑世璋
;
杨智宏
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杨智宏
;
郑孟杰
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郑孟杰
;
彭中宏
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彭中宏
;
蔡淑芬
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蔡淑芬
;
吕志宏
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吕志宏
.
中国专利
:CN1752713A
,2006-03-29
[4]
胶层厚度均匀性检测设备
[P].
温海涛
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机构:
沈阳芯俐微电子设备有限公司
沈阳芯俐微电子设备有限公司
温海涛
;
史册
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机构:
沈阳芯俐微电子设备有限公司
沈阳芯俐微电子设备有限公司
史册
;
王金龙
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机构:
沈阳芯俐微电子设备有限公司
沈阳芯俐微电子设备有限公司
王金龙
;
孙璞
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机构:
沈阳芯俐微电子设备有限公司
沈阳芯俐微电子设备有限公司
孙璞
;
徐晓伟
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机构:
沈阳芯俐微电子设备有限公司
沈阳芯俐微电子设备有限公司
徐晓伟
.
中国专利
:CN118737873A
,2024-10-01
[5]
一种铀层厚度均匀性测算方法及铀层厚度均匀性测量装置
[P].
李彪
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
李彪
;
邓鹏
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
邓鹏
;
昌正科
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
昌正科
;
刘东旭
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
刘东旭
;
李宝成
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
李宝成
;
刘素志
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
刘素志
;
吴华剑
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
吴华剑
;
黄国良
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
黄国良
;
李志军
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
李志军
;
靳占刚
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
靳占刚
;
王斌
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
王斌
;
唐云鹏
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
唐云鹏
;
张霞
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中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
张霞
;
李晨丽
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
李晨丽
;
苏杨
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机构:
中核控制系统工程有限公司
中核控制系统工程有限公司
苏杨
.
中国专利
:CN119665878A
,2025-03-21
[6]
膜层厚度检测方法
[P].
王士敏
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王士敏
;
刘太兴
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刘太兴
;
朱泽力
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朱泽力
;
曾胜祥
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曾胜祥
;
李连伟
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李连伟
;
李海峰
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0
李海峰
.
中国专利
:CN111102944A
,2020-05-05
[7]
在线监测薄膜、镀膜及涂布膜膜层厚度均匀性的装置
[P].
唐能诚
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唐能诚
;
胡建河
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胡建河
.
中国专利
:CN2435740Y
,2001-06-20
[8]
改善层间介质层厚度均匀性的方法
[P].
张磊
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张磊
;
王晓日
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王晓日
;
禹楼飞
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禹楼飞
;
高国磊
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0
高国磊
.
中国专利
:CN115527859A
,2022-12-27
[9]
提高微电铸层厚度均匀性的方法
[P].
论文数:
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机构:
王欢
;
论文数:
引用数:
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机构:
李超波
;
论文数:
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机构:
解婧
.
中国专利
:CN119101961A
,2024-12-10
[10]
优化硅膜厚度均匀性的模具形状
[P].
G·B·库克
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G·B·库克
;
P·马宗达
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P·马宗达
;
B·苏曼
论文数:
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B·苏曼
.
中国专利
:CN103025925A
,2013-04-03
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