磁控溅射均匀进气装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200820073008.0

申请日：

2008-12-30

公开(公告)号：

CN201326008Y

公开(公告)日：

2009-10-14

发明(设计)人：

刘万学张兵王德宏曲爽

申请人：

申请人地址：

136000吉林省四平市烟厂路1118号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司

代理人：

石岱

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-25	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20081230 授权公告日:20091014
2009-10-14	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射真空室均匀进气装置 [P].

马磊 .

中国专利 :CN203382661U ,2014-01-08

[2]

磁控溅射真空室均匀进气装置 [P].

马磊 .

中国专利 :CN103396008A ,2013-11-20

[3]

磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备 [P].

张启平 ;

孙文波 .

中国专利 :CN104451583A ,2015-03-25

[4]

磁控溅射均匀镀膜装置 [P].

龚文志 ;

宋魏 ;

邵寿潜 ;

罗敏 ;

张晓军 .

中国专利 :CN223445632U ,2025-10-17

[5]

一种磁控溅射传动装置及磁控溅射设备 [P].

曹峻峰 ;

张伟建 ;

王星辰 ;

狄贺 ;

凡伟伟 ;

陆黎华 .

中国专利 :CN220300836U ,2024-01-05

[6]

一种磁控溅射布气板及磁控溅射装置 [P].

黄汉乐 ;

李轩 ;

朱正尧 .

中国专利 :CN223255395U ,2025-08-22

[7]

均匀布气的布气装置及真空磁控溅射镀膜设备 [P].

李建华 ;

徐从高 ;

李自全 ;

高文波 .

中国专利 :CN213037834U ,2021-04-23

[8]

磁控溅射镀膜装置 [P].

祁文杰 ;

卢秋霞 ;

林佳继 .

中国专利 :CN222226532U ,2024-12-24

[9]

磁控溅射装置和磁控溅射设备 [P].

毛瑞锋 ;

金相起 ;

程贯杰 ;

李阳阳 ;

王宜申 .

中国专利 :CN206706198U ,2017-12-05

[10]

磁控溅射装置及磁控溅射设备 [P].

胡小波 ;

张晓军 ;

李佳小龙 ;

谢明辉 .

中国专利 :CN223561668U ,2025-11-18

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