磁控溅射真空室均匀进气装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310334828.6

申请日：

2013-08-02

公开(公告)号：

CN103396008A

公开(公告)日：

2013-11-20

发明(设计)人：

马磊

申请人：

申请人地址：

233010 安徽省蚌埠市东海大道6318号

IPC主分类号：

C03C1709

IPC分类号：

代理机构：

蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102

代理人：

张建宏

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-03-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101747585315 IPC(主分类):C03C 17/09 专利申请号:2013103348286 申请公布日:20131120
2013-12-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101551937322 IPC(主分类):C03C 17/09 专利申请号:2013103348286 申请日:20130802
2013-11-20	公开	公开

共 50 条

[1]

磁控溅射真空室均匀进气装置 [P].

马磊 .

中国专利 :CN203382661U ,2014-01-08

[2]

磁控溅射真空室进气装置及磁控溅射设备 [P].

张启平 ;

孙文波 .

中国专利 :CN104451583A ,2015-03-25

[3]

磁控溅射均匀进气装置 [P].

刘万学 ;

张兵 ;

王德宏 ;

曲爽 .

中国专利 :CN201326008Y ,2009-10-14

[4]

真空磁控溅射镀膜装置 [P].

金忠满 .

中国专利 :CN213142171U ,2021-05-07

[5]

真空室进气调节装置及调节方法 [P].

林知本 ;

李永明 ;

张以林 .

中国专利 :CN1904128A ,2007-01-31

[6]

超高真空多功能磁控溅射装置 [P].

李求恕 ;

冯彬 ;

阎佐健 ;

鲁向群 ;

吕祺 ;

金振奎 ;

刘大为 ;

刘军 ;

戚晖 ;

孙荣昌 ;

魏吉萍 ;

曾志群 ;

潘福全 ;

郭宝英 ;

石长友 ;

谭亮 ;

周景玉 .

中国专利 :CN2399402Y ,2000-10-04

[7]

真空磁控溅射的旋转靶装置 [P].

廖荣新 ;

黄进高 ;

禤瑞彬 .

中国专利 :CN202181345U ,2012-04-04

[8]

大型磁控溅射镀膜机的真空室结构 [P].

刘国利 ;

周毅 ;

李国强 .

中国专利 :CN110629181A ,2019-12-31

[9]

大型磁控溅射镀膜机的真空室结构 [P].

刘国利 ;

周毅 ;

李国强 .

中国专利 :CN211199392U ,2020-08-07

[10]

磁控溅射装置 [P].

中村真也 ;

藤井佳词 .

中国专利 :CN107614748B ,2018-01-19

← 1 2 3 4 5 →