氧化铟锡膜及其制作方法

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专利类型
发明
申请号
CN201110302041.2
申请日
2011-10-09
公开(公告)号
CN103031517A
公开(公告)日
2013-04-10
发明(设计)人
杨能辉
申请人
申请人地址
中国台湾台南市
IPC主分类号
C23C1408
IPC分类号
C23C1434
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
韩蕾
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
氧化铟锡膜及其制备方法和应用 [P]. 
袁靖伟 ;
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[3]
氧化铟锡层的蚀刻方法、芯片的制作方法 [P]. 
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[4]
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[8]
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[9]
氧化铟锡膜层稳定化处理方法及设备 [P]. 
李望平 ;
胡应河 .
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[10]
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米泽岳洋 ;
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