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用于产生等离子体和羟基自由基的灭菌设备

被引：0
申请号：
CN202180031271.1
申请日：
2021-04-22
公开(公告)号：
CN115461090A
公开(公告)日：
2022-12-09
发明(设计)人：
C·汉考克 L·特纳 S·普雷斯顿 西蒙·梅多克罗夫特
申请人：
申请人地址：
英国蒙茅斯郡
IPC主分类号：
A61L214
IPC分类号：
代理机构：
广州三环专利商标代理有限公司 44202
代理人：
吴君琴
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-12-27 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):A61L 2/14 申请日:20210422
2022-12-09 公开 公开
共 50 条
[1]
用于产生等离子体和羟基自由基的灭菌设备 [P]. 
C·P·汉考克 ;
G·乌尔里克 ;
D·E·韦伯 ;
L·特纳 ;
乔治·霍格金斯 ;
S·普雷斯顿 ;
西蒙·梅多克罗夫特 .
中国专利 :CN115461089A ,2022-12-09
[2]
用于产生等离子体和羟基自由基的灭菌设备 [P]. 
C·P·汉考克 ;
G·C·乌尔里克 ;
D·E·韦伯 .
中国专利 :CN115666663A ,2023-01-31
[3]
羟基产生等离子体灭菌设备 [P]. 
克里斯托弗·保罗·汉科克 .
中国专利 :CN101888860B ,2010-11-17
[4]
用于产生羟基自由基的方法和设备 [P]. 
法里博尔兹·塔吉普尔 .
中国专利 :CN113677633A ,2021-11-19
[5]
横向等离子体/自由基源 [P]. 
A·K·萨布莱曼尼 ;
K·甘加基德加 ;
A·乔杜里 ;
J·C·福斯特 ;
N·南塔瓦拉努 ;
K·贝拉 ;
P·A·克劳斯 ;
F·豪斯曼 .
中国专利 :CN106783499B ,2017-05-31
[6]
含有等离子体的自由基源 [P]. 
巴顿·莱恩 ;
彼得·文特泽克 .
日本专利 :CN112154528B ,2024-10-29
[7]
含有等离子体的自由基源 [P]. 
巴顿·莱恩 ;
彼得·文特泽克 .
中国专利 :CN112154528A ,2020-12-29
[8]
等离子体灭菌装置和等离子体灭菌方法 [P]. 
李华 ;
杨象添 ;
陈星妤 ;
朱鸿成 ;
李明磊 ;
杜晓霞 .
中国专利 :CN114344511B ,2024-02-23
[9]
等离子体灭菌装置和等离子体灭菌方法 [P]. 
李华 ;
杨象添 ;
陈星妤 ;
朱鸿成 ;
李明磊 ;
杜晓霞 .
中国专利 :CN114344511A ,2022-04-15
[10]
等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P]. 
杨靖 ;
刘涛 ;
乐卫平 ;
宋成 ;
张文杰 ;
谢幸光 .
中国专利 :CN118400855A ,2024-07-26
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