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含有等离子体的自由基源
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980029558.3
申请日
:
2019-05-01
公开(公告)号
:
CN112154528A
公开(公告)日
:
2020-12-29
发明(设计)人
:
巴顿·莱恩
彼得·文特泽克
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
陈炜;李德山
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-05-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20190501
2020-12-29
公开
公开
共 50 条
[1]
含有等离子体的自由基源
[P].
巴顿·莱恩
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
巴顿·莱恩
;
彼得·文特泽克
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
彼得·文特泽克
.
日本专利
:CN112154528B
,2024-10-29
[2]
横向等离子体/自由基源
[P].
A·K·萨布莱曼尼
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A·K·萨布莱曼尼
;
K·甘加基德加
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K·甘加基德加
;
A·乔杜里
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A·乔杜里
;
J·C·福斯特
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J·C·福斯特
;
N·南塔瓦拉努
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N·南塔瓦拉努
;
K·贝拉
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K·贝拉
;
P·A·克劳斯
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P·A·克劳斯
;
F·豪斯曼
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F·豪斯曼
.
中国专利
:CN106783499B
,2017-05-31
[3]
蜂窝形状等离子体自由基清洗系统
[P].
王守国
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王守国
;
韩传宇
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韩传宇
;
赵玲利
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赵玲利
;
张朝前
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张朝前
.
中国专利
:CN102310063A
,2012-01-11
[4]
等离子体源-自由基源自由切换的腔体及工艺
[P].
杨平
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机构:
上海稷以科技有限公司
上海稷以科技有限公司
杨平
.
中国专利
:CN119811973A
,2025-04-11
[5]
远等离子体室清理中的自由基引发剂
[P].
齐宾
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齐宾
.
中国专利
:CN1891856A
,2007-01-10
[6]
一种常压等离子体自由基清洗设备
[P].
贾少霞
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贾少霞
;
王守国
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王守国
;
杨景华
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杨景华
;
赵玲利
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赵玲利
.
中国专利
:CN203030580U
,2013-07-03
[7]
一种常压等离子体自由基清洗系统
[P].
王守国
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王守国
;
贾少霞
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贾少霞
;
赵玲利
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赵玲利
;
杨景华
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杨景华
.
中国专利
:CN103357619A
,2013-10-23
[8]
用于产生等离子体和羟基自由基的灭菌设备
[P].
C·P·汉考克
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C·P·汉考克
;
G·C·乌尔里克
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G·C·乌尔里克
;
D·E·韦伯
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D·E·韦伯
.
中国专利
:CN115666663A
,2023-01-31
[9]
污水中注入等离子体自由基灭菌消毒的方法和装置
[P].
邓康
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邓康
;
胡小吐
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胡小吐
;
刘勇
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0
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0
刘勇
.
中国专利
:CN102765787A
,2012-11-07
[10]
电感耦合等离子体(ICP)反应器的动态离子自由基筛与离子自由基孔
[P].
S·辛格
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S·辛格
;
G·J·斯科特
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G·J·斯科特
;
A·库玛
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A·库玛
.
中国专利
:CN103650118A
,2014-03-19
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