远等离子体室清理中的自由基引发剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610105463.X

申请日：

2006-07-07

公开(公告)号：

CN1891856A

公开(公告)日：

2007-01-10

发明(设计)人：

齐宾

申请人：

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

C23C1600

IPC分类号：

C23F400

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

郭广迅;林森

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-03-07	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-11-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-01-10	公开	公开

共 50 条

[1]

含有等离子体的自由基源 [P].

巴顿·莱恩 ;

彼得·文特泽克 .

日本专利 :CN112154528B ,2024-10-29

[2]

含有等离子体的自由基源 [P].

巴顿·莱恩 ;

彼得·文特泽克 .

中国专利 :CN112154528A ,2020-12-29

[3]

蜂窝形状等离子体自由基清洗系统 [P].

王守国 ;

韩传宇 ;

赵玲利 ;

张朝前 .

中国专利 :CN102310063A ,2012-01-11

[4]

横向等离子体/自由基源 [P].

A·K·萨布莱曼尼 ;

K·甘加基德加 ;

A·乔杜里 ;

J·C·福斯特 ;

N·南塔瓦拉努 ;

K·贝拉 ;

P·A·克劳斯 ;

F·豪斯曼 .

中国专利 :CN106783499B ,2017-05-31

[5]

染料自由基引发剂 [P].

S.N.贝彻洛 .

中国专利 :CN102341489A ,2012-02-01

[6]

一种常压等离子体自由基清洗设备 [P].

贾少霞 ;

王守国 ;

杨景华 ;

赵玲利 .

中国专利 :CN203030580U ,2013-07-03

[7]

一种常压等离子体自由基清洗系统 [P].

王守国 ;

贾少霞 ;

赵玲利 ;

杨景华 .

中国专利 :CN103357619A ,2013-10-23

[8]

用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源 [P].

金南宪 .

中国专利 :CN101040366A ,2007-09-19

[9]

用于产生等离子体和羟基自由基的灭菌设备 [P].

C·P·汉考克 ;

G·C·乌尔里克 ;

D·E·韦伯 .

中国专利 :CN115666663A ,2023-01-31

[10]

等离子体引发乙烯基单体聚合的方法 [P].

孟月东 ;

尤庆亮 ;

汪建华 .

中国专利 :CN1687149A ,2005-10-26

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