等离子体发生用电极和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610147090.2

申请日：

2006-11-14

公开(公告)号：

CN101005727A

公开(公告)日：

2007-07-25

发明(设计)人：

林大辅

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

H01L2100 H01L213065 H01L21311 H01L213213 C23C402 C23C410

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

龙淳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-07-25	公开	公开
2012-02-08	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体生成用电极和等离子体处理装置 [P].

南雅人 ;

佐佐木芳彦 .

中国专利 :CN102779715B ,2012-11-14

[2]

等离子体处理装置用电极及等离子体处理装置 [P].

松岛圭一 ;

铃木隆司 ;

古家元 .

中国专利 :CN1643666A ,2005-07-20

[3]

等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 ;

宫下大幸 ;

小野田裕之 ;

川上聪 .

中国专利 :CN115696713A ,2023-02-03

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

道菅隆 ;

久保田绅治 .

日本专利 :CN111048389B ,2024-09-20

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

菱沼隼 ;

广瀬久 .

中国专利 :CN111681956A ,2020-09-18

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

辻本宏 .

日本专利 :CN119856573A ,2025-04-18

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN110544613A ,2019-12-06

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

大矢欣伸 ;

田边明良 ;

安田吉纪 .

中国专利 :CN104599930A ,2015-05-06

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