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一种高质量氧化镓薄膜及其同质外延生长方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911263522.X
申请日
:
2019-12-11
公开(公告)号
:
CN110911270A
公开(公告)日
:
2020-03-24
发明(设计)人
:
董鑫
张源涛
李赜明
张宝林
焦腾
李万程
申请人
:
申请人地址
:
130012 吉林省长春市市辖区前进大街2699号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
代理机构
:
长春吉大专利代理有限责任公司 22201
代理人
:
刘世纯;王恩远
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-25
授权
授权
2020-03-24
公开
公开
2020-04-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20191211
共 50 条
[1]
一种高质量氮化铝薄膜的同质外延生长方法
[P].
罗伟科
论文数:
0
引用数:
0
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0
罗伟科
;
李忠辉
论文数:
0
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0
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李忠辉
.
中国专利
:CN111188090A
,2020-05-22
[2]
一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
程再军
;
论文数:
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机构:
罗杭
;
论文数:
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机构:
郭榕榕
;
论文数:
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机构:
郑荣升
;
论文数:
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机构:
杨宇霖
.
中国专利
:CN118645423A
,2024-09-13
[3]
一种高质量氧化镓外延薄膜的制备方法及氧化镓薄膜
[P].
岳建英
论文数:
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机构:
北京镓创半导体材料有限公司
北京镓创半导体材料有限公司
岳建英
;
李培刚
论文数:
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机构:
北京镓创半导体材料有限公司
北京镓创半导体材料有限公司
李培刚
;
李胜鹏
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0
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机构:
北京镓创半导体材料有限公司
北京镓创半导体材料有限公司
李胜鹏
.
中国专利
:CN121046937A
,2025-12-02
[4]
氮化镓层及其同质外延生长方法
[P].
罗晓菊
论文数:
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机构:
镓特半导体科技(上海)有限公司
镓特半导体科技(上海)有限公司
罗晓菊
;
王颖慧
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机构:
镓特半导体科技(上海)有限公司
镓特半导体科技(上海)有限公司
王颖慧
;
特洛伊·乔纳森·贝克
论文数:
0
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0
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机构:
镓特半导体科技(上海)有限公司
镓特半导体科技(上海)有限公司
特洛伊·乔纳森·贝克
.
中国专利
:CN112820633B
,2024-01-16
[5]
氮化镓层及其同质外延生长方法
[P].
罗晓菊
论文数:
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罗晓菊
;
王颖慧
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0
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王颖慧
;
特洛伊·乔纳森·贝克
论文数:
0
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特洛伊·乔纳森·贝克
.
中国专利
:CN112820633A
,2021-05-18
[6]
一种高质量p型氧化镓纳米柱状结构薄膜及其制备方法
[P].
董鑫
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董鑫
;
陈威
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陈威
;
焦腾
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焦腾
;
张源涛
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张源涛
;
张宝林
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0
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0
张宝林
.
中国专利
:CN113097055B
,2021-07-09
[7]
一种电子浓度稳定的高质量氧化镓薄膜及其制备方法
[P].
董鑫
论文数:
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董鑫
;
焦腾
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焦腾
;
张源涛
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张源涛
;
张宝林
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张宝林
;
李赜明
论文数:
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0
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0
李赜明
.
中国专利
:CN111725072B
,2020-09-29
[8]
一种高质量κ相氧化镓外延薄膜的制备方法
[P].
叶建东
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叶建东
;
龚义清
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龚义清
;
郝景刚
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郝景刚
;
陈选虎
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陈选虎
;
任芳芳
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任芳芳
;
顾书林
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顾书林
.
中国专利
:CN110616456A
,2019-12-27
[9]
氧化镓薄膜及其异质外延生长方法与应用
[P].
张晓东
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张晓东
;
马永健
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马永健
;
李军帅
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李军帅
;
张宝顺
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张宝顺
.
中国专利
:CN112490112A
,2021-03-12
[10]
镓极性面氮化镓材料及同质外延生长方法
[P].
薛军帅
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薛军帅
;
杨雪妍
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杨雪妍
;
李蓝星
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李蓝星
;
姚佳佳
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姚佳佳
;
孙志鹏
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孙志鹏
;
张赫朋
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张赫朋
;
刘芳
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刘芳
;
张进成
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张进成
;
郝跃
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郝跃
.
中国专利
:CN112750689A
,2021-05-04
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