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半导体装置封装和其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710325468.1
申请日
:
2017-05-10
公开(公告)号
:
CN107946256A
公开(公告)日
:
2018-04-20
发明(设计)人
:
黄俊钦
叶勇谊
许哲铭
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾高雄市楠梓加工区经三路26号
IPC主分类号
:
H01L2331
IPC分类号
:
H01L23528
H01L2150
H01L2160
代理机构
:
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
:
萧辅宽
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-04-20
公开
公开
2018-06-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/31 申请日:20170510
2019-11-15
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体装置和其形成方法
[P].
杉冈繁
论文数:
0
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杉冈繁
;
山口秀范
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山口秀范
;
川北惠三
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川北惠三
;
徐邦宁
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徐邦宁
.
中国专利
:CN113809081A
,2021-12-17
[2]
半导体装置和其形成方法
[P].
杉冈繁
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
杉冈繁
;
山口秀范
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
山口秀范
;
川北惠三
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
川北惠三
;
徐邦宁
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
徐邦宁
.
美国专利
:CN113809081B
,2025-04-29
[3]
半导体封装和其形成方法
[P].
张任远
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张任远
;
赖佳平
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赖佳平
.
中国专利
:CN114783957A
,2022-07-22
[4]
半导体装置和其形成方法
[P].
李佑祖
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机构:
鸿扬半导体股份有限公司
鸿扬半导体股份有限公司
李佑祖
;
陈彦儒
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机构:
鸿扬半导体股份有限公司
鸿扬半导体股份有限公司
陈彦儒
;
蒋光浩
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机构:
鸿扬半导体股份有限公司
鸿扬半导体股份有限公司
蒋光浩
.
中国专利
:CN118173583A
,2024-06-11
[5]
半导体装置和其形成方法
[P].
唐瀚楀
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唐瀚楀
;
张宏台
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张宏台
;
游明华
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游明华
;
杨育佳
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杨育佳
.
中国专利
:CN114551578A
,2022-05-27
[6]
半导体装置和其形成方法
[P].
龚耀雄
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南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
龚耀雄
;
赖朝文
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
赖朝文
.
中国专利
:CN114975354B
,2025-12-12
[7]
半导体装置和其形成方法
[P].
吴雲骥
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吴雲骥
;
杨宗谕
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杨宗谕
;
徐丞伯
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徐丞伯
;
刘建宏
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刘建宏
.
中国专利
:CN111128885B
,2020-05-08
[8]
半导体装置结构和其形成方法
[P].
陈信吉
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陈信吉
;
黄薰瑩
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黄薰瑩
;
李智铭
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李智铭
;
吴尚彦
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吴尚彦
;
杨智安
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杨智安
;
何弘伟
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何弘伟
;
张朝钦
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张朝钦
;
黄琮伟
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黄琮伟
.
中国专利
:CN113327905A
,2021-08-31
[9]
半导体装置结构和其形成方法
[P].
陈信吉
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈信吉
;
黄薰瑩
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄薰瑩
;
李智铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李智铭
;
吴尚彦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
吴尚彦
;
杨智安
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台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨智安
;
何弘伟
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
何弘伟
;
张朝钦
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
张朝钦
;
黄琮伟
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄琮伟
.
中国专利
:CN113327905B
,2025-04-25
[10]
半导体装置结构和其形成方法
[P].
潘冠廷
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潘冠廷
;
江国诚
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江国诚
;
朱熙甯
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朱熙甯
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詹易叡
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詹易叡
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程冠伦
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程冠伦
;
王志豪
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王志豪
.
中国专利
:CN113658954A
,2021-11-16
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