一种MOS晶体管结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310714649.5
申请日
2013-12-20
公开(公告)号
CN104733319A
公开(公告)日
2015-06-24
发明(设计)人
李睿 尹海洲 刘云飞
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2128 H01L2978 H01L29423
代理机构
北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370
代理人
朱海波
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种MOS晶体管结构及其制造方法 [P]. 
李睿 ;
尹海洲 ;
刘云飞 .
中国专利 :CN104733318A ,2015-06-24
[2]
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王冬江 .
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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