气体供应系统及其基片处理装置

被引：0

申请号：

CN202222860276.X

申请日：

2022-10-28

公开(公告)号：

CN218435942U

公开(公告)日：

2023-02-03

发明(设计)人：

许灿陶珩

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

C23C16448

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司 31323

代理人：

包姝晴;张静洁

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-03	授权	授权

共 50 条

[1]

一种气体供应系统及其气体供应方法 [P].

许灿 ;

陶珩 .

中国专利 :CN118007098A ,2024-05-10

[2]

气体供应系统 [P].

范振华 .

中国专利 :CN201568737U ,2010-09-01

[3]

气体供应系统及其气体输送方法、等离子体处理装置 [P].

连增迪 ;

左涛涛 ;

吴狄 .

中国专利 :CN112928008A ,2021-06-08

[4]

气体供应系统 [P].

徐星杓 ;

郑迺汉 ;

欧炳志 .

中国专利 :CN112086334A ,2020-12-15

[5]

气体供应系统 [P].

O·勒韦尔 ;

M·弗勒纳 ;

A·伯迪克 .

中国专利 :CN211170883U ,2020-08-04

[6]

气体处理装置、半导体处理系统 [P].

周维 ;

吴正鹏 ;

王海平 .

中国专利 :CN221788714U ,2024-10-01

[7]

气体处理装置和基片处理装置 [P].

津贺尾圭祐 ;

青木大辅 .

中国专利 :CN218485582U ,2023-02-17

[8]

一种等离子体处理装置气体供应系统 [P].

马冬叶 ;

连增迪 ;

陈煌琳 .

中国专利 :CN213936113U ,2021-08-10

[9]

基片处理装置、基片处理方法和气体供给组件 [P].

大森贵史 ;

田中诚治 ;

天野健次 .

日本专利 :CN117373889A ,2024-01-09

[10]

一种气体供应系统 [P].

华权高 ;

沈鹤霄 ;

许可 ;

舒芹 .

中国专利 :CN203248996U ,2013-10-23

← 1 2 3 4 5 →