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半导体工艺设备的反应腔室及半导体工艺设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011142050.5
申请日：
2020-10-22
公开(公告)号：
CN112458441B
公开(公告)日：
2021-03-09
发明(设计)人：
朱海云
申请人：
申请人地址：
100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
C23C1654
IPC分类号：
C23C1652
C23C1644
C23C16455
C23C16458
H01L2120
H01L21205
代理机构：
北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315
代理人：
施敬勃
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-03-09 | 公开 | 公开 |
| 2022-09-16 | 授权 | 授权 |