用于在间隙填充中沉积和蚀刻的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010046740.4

申请日：

2017-06-30

公开(公告)号：

CN111243931A

公开(公告)日：

2020-06-05

发明(设计)人：

阿希尔·辛格哈尔帕特里克·A·范克利蒙布特马丁·E·弗里伯恩巴特·J·范施拉芬迪克

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

C23C1604 C23C16455 C23C16509

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠;张华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20170630
2020-06-05	公开	公开

共 50 条

[1]

用于在间隙填充中沉积和蚀刻的装置和方法 [P].

阿希尔·辛格哈尔 ;

帕特里克·A·范克利蒙布特 ;

马丁·E·弗里伯恩 ;

巴特·J·范施拉芬迪克 .

中国专利 :CN107564790A ,2018-01-09

[2]

用于在间隙中沉积材料的方法和组件 [P].

R·博鲁德 ;

B·穆克吉 ;

R·H·J·沃乌尔特 ;

V·波雷 ;

堤隆嘉 ;

小林伸好 ;

堀胜 .

:CN119275085A ,2025-01-07

[3]

针对改善的间隙填充的混合式沉积和蚀刻工艺 [P].

大卫·约瑟夫·曼迪亚 ;

马修·伯特拉姆·爱德华·格里菲思 ;

希瓦南达·克里希南·卡纳卡萨巴保蒂 .

美国专利 :CN120937115A ,2025-11-11

[4]

用于硅间隙填充的循环保形沉积/退火/蚀刻 [P].

程睿 ;

杨奕 ;

A·B·玛里克 .

中国专利 :CN110892505A ,2020-03-17

[5]

用于沉积间隙填充流体的方法及相关的系统和装置 [P].

T.布兰夸特 .

中国专利 :CN114763603A ,2022-07-19

[6]

用于填充间隙的方法和系统 [P].

R·H·J·沃乌尔特 ;

T·布兰夸特 ;

C·德泽拉 .

:CN119601527A ,2025-03-11

[7]

用于填充间隙的方法和设备 [P].

优财津 ;

深泽笃毅 .

中国专利 :CN109477212A ,2019-03-15

[8]

用于填充间隙的方法和系统 [P].

E.费尔姆 ;

岩下信哉 ;

C.德泽拉 ;

J.W.梅斯 ;

T.布兰夸特 ;

R.H.J.沃乌尔特 ;

V.波雷 ;

G.A.沃尼 ;

谢琦 ;

R-J.张 ;

E.J.希罗 .

中国专利 :CN115000000A ,2022-09-02

[9]

用于填充间隙的方法和系统 [P].

R.H.J.沃乌尔特 ;

T.布兰夸特 ;

V.波雷 ;

G.A.沃尼 ;

谢琦 ;

R-J.张 ;

E.J.希罗 .

中国专利 :CN114990518A ,2022-09-02

[10]

用于填充间隙的方法和系统 [P].

T·布兰夸特 ;

R·H·J·沃乌尔特 .

:CN119522037A ,2025-02-25

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