一种亚纳米级离子束抛光设备及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610789776.5

申请日：

2016-08-31

公开(公告)号：

CN106181594A

公开(公告)日：

2016-12-07

发明(设计)人：

刁克明

申请人：

申请人地址：

100071 北京市丰台区小屯路150号

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

代理机构：

北京格允知识产权代理有限公司 11609

代理人：

周娇娇;谭辉

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-07	公开	公开
2017-01-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101695174113 IPC(主分类):B24B 1/00 专利申请号:2016107897765 申请日:20160831
2018-11-09	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B24B 1/00 申请公布日:20161207

共 50 条

[1]

一种亚纳米级离子束抛光设备 [P].

刁克明 .

中国专利 :CN206066090U ,2017-04-05

[2]

离子束抛光设备及应用其的离子束抛光方法 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN104907894A ,2015-09-16

[3]

离子束抛光设备 [P].

吴丽翔 ;

邱克强 ;

曾思为 ;

付绍军 .

中国专利 :CN204771859U ,2015-11-18

[4]

一种离子束抛光设备 [P].

常洪兴 ;

徐胜 .

中国专利 :CN210549947U ,2020-05-19

[5]

一种离子束抛光装备 [P].

张松林 .

中国专利 :CN222767939U ,2025-04-18

[6]

一种离子束抛光装置 [P].

黄贺 ;

张瀛怀 ;

房圣桃 ;

李鑫 ;

梁棋翔 ;

张健 ;

叶铭堃 .

中国专利 :CN119238225A ,2025-01-03

[7]

双真空室离子束抛光系统及抛光方法 [P].

周林 ;

戴一帆 ;

袁征 ;

解旭辉 ;

李圣怡 ;

任虹宇 .

中国专利 :CN102744654B ,2012-10-24

[8]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387B ,2024-04-09

[9]

一种离子束抛光机的可调支撑结构及离子束抛光机 [P].

李文坚 .

中国专利 :CN117484387A ,2024-02-02

[10]

一种非球面离子束抛光方法 [P].

陈智利 ;

刘卫国 ;

惠迎雪 ;

周顺 ;

张进 ;

陈鹏 .

中国专利 :CN114273986A ,2022-04-05

← 1 2 3 4 5 →