抛光垫和化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410045172.7

申请日：

2004-04-23

公开(公告)号：

CN1569399A

公开(公告)日：

2005-01-26

发明(设计)人：

志保浩司冈本隆浩长谷川亨川桥信夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

H01L21302

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

赵苏林;郭广迅

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-14	授权	授权
2005-01-26	公开	公开
2019-04-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/04 申请日:20040423 授权公告日:20091014 终止日期:20180423

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051B ,2025-08-29

[2]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051A ,2024-10-01

[3]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[4]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[5]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[7]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[8]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[10]

化学机械抛光垫和抛光方法 [P].

M·R·加丁科 ;

M·T·伊斯兰 ;

郭毅 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN111203798B ,2020-05-29

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