化学机械抛光垫和抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911064228.6

申请日：

2019-11-04

公开(公告)号：

CN111203798B

公开(公告)日：

2020-05-29

发明(设计)人：

M·R·加丁科 M·T·伊斯兰郭毅 G·C·雅各布

申请人：

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B3720 B24B3724 B24B5702 C08G1832 C08G1838

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;胡嘉倩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/04 申请日:20191104
2021-12-07	授权	授权
2020-05-29	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫和抛光方法 [P].

M·R·加丁科 ;

M·T·伊斯兰 ;

郭毅 ;

G·C·雅各布 .

中国专利 :CN111136577B ,2020-05-12

[2]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[3]

抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

冈本隆浩 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN1569399A ,2005-01-26

[4]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[5]

化学机械抛光垫和抛光方法 [P].

B·E·巴尔顿 ;

T·布鲁加罗拉斯布鲁福 .

中国专利 :CN114770368A ,2022-07-22

[6]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051B ,2025-08-29

[7]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051A ,2024-10-01

[8]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[9]

抛光垫和化学机械抛光装置 [P].

崔宰荣 .

中国专利 :CN101125419A ,2008-02-20

[10]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

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