正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680003225.6

申请日：

2006-01-25

公开(公告)号：

CN101107567A

公开(公告)日：

2008-01-16

发明(设计)人：

竹下优

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-03-05	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-01-16	公开	公开
2012-02-01	授权	授权

共 50 条

[1]

正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

大久保和喜 ;

萩原三雄 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1916763A ,2007-02-21

[2]

正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 [P].

大久保和喜 ;

萩原三雄 ;

新田和行 .

中国专利 :CN1310092C ,2005-02-02

[3]

正型抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法 [P].

染谷和也 ;

山口敏弘 ;

青木知三郎 .

中国专利 :CN102650830B ,2012-08-29

[4]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

萩原三雄 ;

中绪卓 ;

新田和行 .

中国专利 :CN100410810C ,2005-02-02

[5]

正型抗蚀剂组合物的制备方法、正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法 [P].

室井雅昭 ;

厚地浩太 ;

中村孝弘 ;

山田雅和 ;

最所贤介 .

中国专利 :CN101223479A ,2008-07-16

[6]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

木下洋平 .

中国专利 :CN101198905A ,2008-06-11

[7]

正型抗蚀剂组合物和形成抗蚀图案的方法 [P].

山崎晃义 ;

谷和夫 ;

本池直人 ;

前盛论 ;

吉泽佐智子 .

中国专利 :CN1853140B ,2006-10-25

[8]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

广崎贵子 ;

盐野大寿 ;

平山拓 .

中国专利 :CN101176041A ,2008-05-07

[9]

正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 [P].

中山一彦 ;

高木勇 .

中国专利 :CN1550898A ,2004-12-01

[10]

抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法 [P].

藤崎真史 ;

土屋纯一 ;

远藤浩太朗 .

中国专利 :CN108693703B ,2018-10-23

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