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变倍光学系统、光学装置以及变倍光学系统的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201780094549.3
申请日
:
2017-09-11
公开(公告)号
:
CN111095070B
公开(公告)日
:
2020-05-01
发明(设计)人
:
梅田武
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
G02B1520
IPC分类号
:
G02B1318
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
:
季莹;方应星
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 15/20 申请日:20170911
2022-05-10
授权
授权
2020-05-01
公开
公开
共 50 条
[21]
变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
町田幸介
.
中国专利
:CN110520777B
,2019-11-29
[22]
变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
町田幸介
.
中国专利
:CN110573924B
,2019-12-13
[23]
变倍光学系统、光学装置和制造变倍光学系统的方法
[P].
小滨昭彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
小滨昭彦
.
中国专利
:CN104755983A
,2015-07-01
[24]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
大竹史哲
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大竹史哲
.
中国专利
:CN114868067A
,2022-08-05
[25]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
芝山敦史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
芝山敦史
.
中国专利
:CN107407795A
,2017-11-28
[26]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
町田幸介
.
中国专利
:CN108292029A
,2018-07-17
[27]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
大竹史哲
论文数:
0
引用数:
0
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0
大竹史哲
;
野中杏菜
论文数:
0
引用数:
0
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野中杏菜
;
汤浅吉晴
论文数:
0
引用数:
0
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0
汤浅吉晴
;
梅田武
论文数:
0
引用数:
0
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0
梅田武
.
中国专利
:CN114787682A
,2022-07-22
[28]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
町田幸介
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
町田幸介
.
中国专利
:CN108292031A
,2018-07-17
[29]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
山本浩史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山本浩史
.
中国专利
:CN115004074A
,2022-09-02
[30]
变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法
[P].
城秀幸
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社尼康
株式会社尼康
城秀幸
;
幸岛知之
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
株式会社尼康
株式会社尼康
幸岛知之
.
日本专利
:CN120883112A
,2025-10-31
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