形成抗反射涂层的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580042018.7

申请日：

2005-09-29

公开(公告)号：

CN101073038A

公开(公告)日：

2007-11-14

发明(设计)人：

P－F·付 E·S·莫耶 C·R·耶克勒

申请人：

申请人地址：

美国密执安

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

C08G7712 C09D18304 G03F7075 C09D18306

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

张钦

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-01-09	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-05-05	授权	授权
2021-09-14	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/09 申请日:20050929 授权公告日:20100505 终止日期:20200929
2007-11-14	公开	公开
2019-02-26	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/09 变更事项:专利权人变更前:陶氏康宁公司变更后:美国陶氏有机硅公司变更事项:地址变更前:美国密执安变更后:美国密歇根州

共 50 条

[1]

形成抗反射涂层的方法 [P].

P－F·付 ;

E·S·莫耶 ;

C·R·耶克勒 .

中国专利 :CN101073039A ,2007-11-14

[2]

形成抗反射涂层的方法 [P].

P－F·付 ;

E·S·莫耶 ;

C·R·耶克勒 .

中国专利 :CN101072896A ,2007-11-14

[3]

可转换的抗反射涂层 [P].

付鹏飞 ;

埃里克·摩尔 ;

杰森·苏何尔 .

中国专利 :CN102245722B ,2011-11-16

[4]

可湿蚀刻的抗反射涂层 [P].

付鹏飞 ;

埃里克·摩尔 ;

亚克雷·克雷格 .

中国专利 :CN102245723B ,2011-11-16

[5]

形成抗反射涂层的方法 [P].

孙晓东 ;

O·M·布阿扎 .

中国专利 :CN1210139C ,2003-10-08

[6]

形成抗反射涂层的方法 [P].

孙晓东 ;

O·M·布阿扎 .

中国专利 :CN1450938A ,2003-10-22

[7]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1720485A ,2006-01-11

[8]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1782872A ,2006-06-07

[9]

抗反射涂层及制品与形成抗反射涂层及制品的方法 [P].

卡尔·威廉·科赫三世 ;

成重·李 ;

杰安-弗朗索瓦·奥达弟 .

中国专利 :CN111936891A ,2020-11-13

[10]

顶部抗反射涂层组合物、形成图案的方法以及顶部抗反射涂层 [P].

仓本胜利 ;

小林政一 ;

秋山靖 .

中国专利 :CN101568991B ,2009-10-28

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