用于形成抗反射涂层的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200380104698.1

申请日：

2003-12-01

公开(公告)号：

CN1720485A

公开(公告)日：

2006-01-11

发明(设计)人：

平山拓山田知孝川名大助田村弘毅佐藤和史

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

C08G7714 H01L21027

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

宋莉;贾静环

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-01-11	公开	公开
2010-01-20	授权	授权
2006-03-01	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1782872A ,2006-06-07

[2]

形成抗反射涂层的方法 [P].

P－F·付 ;

E·S·莫耶 ;

C·R·耶克勒 .

中国专利 :CN101072896A ,2007-11-14

[3]

形成抗反射涂层的方法 [P].

P－F·付 ;

E·S·莫耶 ;

C·R·耶克勒 .

中国专利 :CN101073039A ,2007-11-14

[4]

形成抗反射涂层的方法 [P].

P－F·付 ;

E·S·莫耶 ;

C·R·耶克勒 .

中国专利 :CN101073038A ,2007-11-14

[5]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[6]

顶部抗反射涂层组合物、形成图案的方法以及顶部抗反射涂层 [P].

仓本胜利 ;

小林政一 ;

秋山靖 .

中国专利 :CN101568991B ,2009-10-28

[7]

用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法 [P].

秋山靖 ;

高野佑辅 .

中国专利 :CN100476598C ,2005-09-07

[8]

一种抗反射涂层组合物 [P].

张爱强 ;

陈仁治 ;

陈渊 ;

江一敏 .

中国专利 :CN115403976A ,2022-11-29

[9]

抗反射涂层组合物 [P].

高野祐辅 ;

田中初幸 ;

李东翰 .

中国专利 :CN1335945A ,2002-02-13

[10]

抗反射涂层组合物 [P].

E·K·帕韦尔切克 ;

P·特雷福纳斯三世 .

中国专利 :CN1385757A ,2002-12-18

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