用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03815458.7

申请日：

2003-06-26

公开(公告)号：

CN100476598C

公开(公告)日：

2005-09-07

发明(设计)人：

秋山靖高野佑辅

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F738

IPC分类号：

G03F711 H01L21027

代理机构：

北京三幸商标专利事务所

代理人：

刘激扬

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-11-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-04-08	授权	授权
2015-04-29	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101714340151 IPC(主分类):G03F 7/38 专利号:ZL038154587 变更事项:专利权人变更前权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社变更后权利人:默克专利有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都变更后权利人:德国达姆施塔特登记生效日:20150408
2005-09-07	公开	公开
2012-06-27	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101390326979 IPC(主分类):G03F 7/38 专利号:ZL038154587 变更事项:专利权人变更前权利人:AZ电子材料(日本)株式会社变更后权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都变更后权利人:日本国东京都登记生效日:20120521

共 50 条

[1]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1720485A ,2006-01-11

[2]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1782872A ,2006-06-07

[3]

顶部抗反射涂层组合物、形成图案的方法以及顶部抗反射涂层 [P].

仓本胜利 ;

小林政一 ;

秋山靖 .

中国专利 :CN101568991B ,2009-10-28

[4]

抗反射涂层组合物 [P].

高野祐辅 ;

田中初幸 ;

高野圣史 ;

桥本丰 .

中国专利 :CN1272864A ,2000-11-08

[5]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[6]

用于形成抗反射涂层的聚合物 [P].

金相廷 ;

金德倍 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1828414A ,2006-09-06

[7]

用于形成抗反射涂层的聚合物 [P].

金相廷 ;

金德倍 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1827659B ,2006-09-06

[8]

用于形成抗反射涂层的聚合物 [P].

金相廷 ;

金德倍 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1828415B ,2006-09-06

[9]

用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层 [P].

I·穆库洛奇 ;

R·R·达米尔 ;

A·J·科尔索 ;

丁术李 ;

D·L·杜哈姆 ;

卢炳宏 ;

康鸣 ;

D·N·克哈纳 .

中国专利 :CN1111760C ,1999-10-20

[10]

用于有机抗反射涂层的组合物及共聚物 [P].

金铭雄 ;

朴柱铉 ;

林永泽 ;

金亨基 ;

李俊昊 ;

李钟敦 ;

赵承德 .

中国专利 :CN101560279A ,2009-10-21

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