可显影的底部抗反射涂层形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280061706.8

申请日：

2012-12-14

公开(公告)号：

CN103998987B

公开(公告)日：

2014-08-20

发明(设计)人：

中杉茂正山本和磨秋山靖宫崎真治 M·帕德马纳班 S·查克拉帕尼

申请人：

申请人地址：

德国达姆施塔特

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216

代理人：

刘激扬

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-08-20	公开	公开
2014-09-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101586959537 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2012800617068 申请日:20121214
2015-04-29	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101714169183 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2012800617068 变更事项:申请人变更前权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社变更后权利人:默克专利有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都变更后权利人:德国达姆施塔特登记生效日:20150407
2017-07-04	授权	授权

共 50 条

[1]

可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

陈光荣 ;

S·霍尔梅斯 ;

黄武松 ;

R·邝惠玲 ;

刘森 .

中国专利 :CN104335079B ,2015-02-04

[2]

底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

郑旼镐 ;

金喆禹 ;

咸珍守 ;

金仙珠 ;

朴明俊 ;

李濫揆 ;

李慧秀 .

中国专利 :CN110998446A ,2020-04-10

[3]

能显影的底部抗反射涂层 [P].

中杉茂正 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

A·D·迪奥塞斯 .

中国专利 :CN104736523A ,2015-06-24

[4]

底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

陈鹏 ;

夏力 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN114384761A ,2022-04-22

[5]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1720485A ,2006-01-11

[6]

用于形成抗反射涂层的组合物 [P].

平山拓 ;

山田知孝 ;

川名大助 ;

田村弘毅 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1782872A ,2006-06-07

[7]

一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

夏力 ;

马潇 ;

陈鹏 ;

许从应 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN114415473A ,2022-04-29

[8]

正性作用的可光成像底部抗反射涂层 [P].

R·R·达梅尔 ;

S·查克拉帕尼 ;

M·帕德马纳班 ;

宫崎真治 ;

E·W·额 ;

工藤隆范 ;

A·D·迪奥赛斯 ;

F·M·霍利亨 .

中国专利 :CN102576193A ,2012-07-11

[9]

正作用可光致成像底部抗反射涂层 [P].

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 ;

F·M·胡里汉 ;

宫崎真治 ;

E·W·恩格 ;

M·O·奈瑟 .

中国专利 :CN102483575B ,2012-05-30

[10]

一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

夏力 ;

马潇 ;

陈鹏 ;

卢汉林 ;

许从应 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN114706273A ,2022-07-05

← 1 2 3 4 5 →