正性作用的可光成像底部抗反射涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980161858.3

申请日：

2009-11-12

公开(公告)号：

CN102576193A

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

R·R·达梅尔 S·查克拉帕尼 M·帕德马纳班宫崎真治 E·W·额工藤隆范 A·D·迪奥赛斯 F·M·霍利亨

申请人：

申请人地址：

美国新泽西

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

夏正东

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-07-11	公开	公开
2014-06-25	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101702016520 IPC(主分类):G03F 7/09 专利申请号:2009801618583 申请公布日:20120711
2012-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101327742114 IPC(主分类):G03F 7/09 专利申请号:2009801618583 申请日:20091112

共 50 条

[1]

正性作用可光成像底部抗反射涂层 [P].

J·E·奥伯兰德 ;

R·R·达默尔 ;

李丁术季 ;

M·O·尼瑟尔 ;

M·A·图卡伊 .

中国专利 :CN101408729A ,2009-04-15

[2]

正性作用可光成像底部抗反射涂层 [P].

J·E·奥伯兰德 ;

R·R·达默尔 ;

李丁术季 ;

M·O·尼瑟尔 ;

M·A·图卡伊 .

中国专利 :CN1615302A ,2005-05-11

[3]

正作用可光致成像底部抗反射涂层 [P].

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 ;

F·M·胡里汉 ;

宫崎真治 ;

E·W·恩格 ;

M·O·奈瑟 .

中国专利 :CN102483575B ,2012-05-30

[4]

正性操作的可光成像的底部抗反射涂层 [P].

隋郁 ;

吴恒鹏 ;

康文兵 ;

M·O·那斯尔 ;

片山朋英 ;

S·S·丁-李 ;

菱田有高 ;

J·E·欧博兰德 ;

M·A·托克西 .

中国专利 :CN102879999A ,2013-01-16

[5]

正性操作的可光成像的底部抗反射涂层 [P].

隋郁 ;

吴恒鹏 ;

康文兵 ;

M·O·那斯尔 ;

片山朋英 ;

S·S·丁-李 ;

菱田有高 ;

J·E·欧博兰德 ;

M·A·托克西 .

中国专利 :CN1942826B ,2007-04-04

[6]

负性作用可光成像底部抗反射涂层 [P].

J·E·奥伯兰德 ;

R·R·达默尔 ;

李丁术季 ;

M·O·尼瑟尔 ;

M·A·图卡伊 .

中国专利 :CN1615460A ,2005-05-11

[7]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[8]

可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

陈光荣 ;

S·霍尔梅斯 ;

黄武松 ;

R·邝惠玲 ;

刘森 .

中国专利 :CN104335079B ,2015-02-04

[9]

能显影的底部抗反射涂层 [P].

中杉茂正 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

A·D·迪奥塞斯 .

中国专利 :CN104736523A ,2015-06-24

[10]

底部抗反射涂层的涂布方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN104810252B ,2015-07-29

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