正性作用可光成像底部抗反射涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810210008.5

申请日：

2003-01-03

公开(公告)号：

CN101408729A

公开(公告)日：

2009-04-15

发明(设计)人：

J·E·奥伯兰德 R·R·达默尔李丁术季 M·O·尼瑟尔 M·A·图卡伊

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F7039

IPC分类号：

G03F700 G03F709

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王健

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-15	公开	公开
2009-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-10-24	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101456931975 IPC(主分类):G03F 7/039 专利申请号:2008102100085 申请公布日:20090415

共 50 条

[1]

正性作用可光成像底部抗反射涂层 [P].

J·E·奥伯兰德 ;

R·R·达默尔 ;

李丁术季 ;

M·O·尼瑟尔 ;

M·A·图卡伊 .

中国专利 :CN1615302A ,2005-05-11

[2]

正性作用的可光成像底部抗反射涂层 [P].

R·R·达梅尔 ;

S·查克拉帕尼 ;

M·帕德马纳班 ;

宫崎真治 ;

E·W·额 ;

工藤隆范 ;

A·D·迪奥赛斯 ;

F·M·霍利亨 .

中国专利 :CN102576193A ,2012-07-11

[3]

正作用可光致成像底部抗反射涂层 [P].

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 ;

F·M·胡里汉 ;

宫崎真治 ;

E·W·恩格 ;

M·O·奈瑟 .

中国专利 :CN102483575B ,2012-05-30

[4]

负性作用可光成像底部抗反射涂层 [P].

J·E·奥伯兰德 ;

R·R·达默尔 ;

李丁术季 ;

M·O·尼瑟尔 ;

M·A·图卡伊 .

中国专利 :CN1615460A ,2005-05-11

[5]

正性操作的可光成像的底部抗反射涂层 [P].

隋郁 ;

吴恒鹏 ;

康文兵 ;

M·O·那斯尔 ;

片山朋英 ;

S·S·丁-李 ;

菱田有高 ;

J·E·欧博兰德 ;

M·A·托克西 .

中国专利 :CN102879999A ,2013-01-16

[6]

正性操作的可光成像的底部抗反射涂层 [P].

隋郁 ;

吴恒鹏 ;

康文兵 ;

M·O·那斯尔 ;

片山朋英 ;

S·S·丁-李 ;

菱田有高 ;

J·E·欧博兰德 ;

M·A·托克西 .

中国专利 :CN1942826B ,2007-04-04

[7]

底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

郑旼镐 ;

金喆禹 ;

咸珍守 ;

金仙珠 ;

朴明俊 ;

李濫揆 ;

李慧秀 .

中国专利 :CN110998446A ,2020-04-10

[8]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[9]

底部抗反射涂层的涂布方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN104810252B ,2015-07-29

[10]

能显影的底部抗反射涂层 [P].

中杉茂正 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

A·D·迪奥塞斯 .

中国专利 :CN104736523A ,2015-06-24

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