底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880049505.3

申请日：

2018-07-04

公开(公告)号：

CN110998446A

公开(公告)日：

2020-04-10

发明(设计)人：

郑旼镐金喆禹咸珍守金仙珠朴明俊李濫揆李慧秀

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

C08G1226

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

刘成春;安玉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-10	公开	公开
2022-04-08	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/09 变更事项:申请人变更前:SK新技术株式会社变更后:SK新技术株式会社变更事项:地址变更前:韩国首尔变更后:韩国首尔变更事项:申请人变更前:SK 综合化学株式会社变更后:爱思开致新株式会社
2020-06-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/09 申请日:20180704

共 50 条

[1]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[2]

用于形成抗反射涂层的聚合物 [P].

金相廷 ;

金德倍 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1828414A ,2006-09-06

[3]

用于形成抗反射涂层的聚合物 [P].

金相廷 ;

金德倍 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1827659B ,2006-09-06

[4]

用于形成抗反射涂层的聚合物 [P].

金相廷 ;

金德倍 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1828415B ,2006-09-06

[5]

底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

陈鹏 ;

夏力 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN114384761A ,2022-04-22

[6]

底部抗反射涂层组合物和用于该组合物的新型聚合物染料 [P].

格奥尔格·帕夫洛夫斯基 ;

康文兵 ;

田中初幸 ;

木村健 ;

西胁良典 ;

穆尼拉斯娜·帕德马纳班 .

中国专利 :CN1273646A ,2000-11-15

[7]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732A ,2024-12-20

[8]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732B ,2025-01-28

[9]

有机抗反射涂层聚合物、含该聚合物的抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

洪圣恩 ;

郑旼镐 ;

郑载昌 ;

李根守 ;

白基镐 .

中国专利 :CN1185268C ,2002-01-16

[10]

可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

陈光荣 ;

S·霍尔梅斯 ;

黄武松 ;

R·邝惠玲 ;

刘森 .

中国专利 :CN104335079B ,2015-02-04

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