底部抗反射涂层组合物和用于该组合物的新型聚合物染料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN99801113.4

申请日：

1999-06-23

公开(公告)号：

CN1273646A

公开(公告)日：

2000-11-15

发明(设计)人：

格奥尔格·帕夫洛夫斯基康文兵田中初幸木村健西胁良典穆尼拉斯娜·帕德马纳班

申请人：

申请人地址：

瑞士穆滕茨

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

G03F7004 H01L21027 C08F1638 C08F828 C08L2914

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

程伟

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-09-07	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2002-06-05	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:克拉瑞特国际有限公司变更后权利人:克拉瑞特金融(BVI)有限公司变更事项:地址变更前权利人:瑞士穆滕茨变更后权利人:英属维尔京群岛托尔托拉岛登记生效日:20020403
2000-11-15	公开	公开
2001-08-08	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

新型有机底部抗反射聚合物组合物 [P].

姚晖蓉 ;

李丁术季 .

中国专利 :CN101223205A ,2008-07-16

[2]

底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

郑旼镐 ;

金喆禹 ;

咸珍守 ;

金仙珠 ;

朴明俊 ;

李濫揆 ;

李慧秀 .

中国专利 :CN110998446A ,2020-04-10

[3]

有机抗反射涂层聚合物、含该聚合物的抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

洪圣恩 ;

郑旼镐 ;

郑载昌 ;

李根守 ;

白基镐 .

中国专利 :CN1185268C ,2002-01-16

[4]

一种含硅聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

马丽丽 ;

毛鸿超 ;

王静 .

中国专利 :CN116478328B ,2025-01-24

[5]

抗反射涂层或吸光涂层组合物及其使用的聚合物 [P].

穆尼拉斯纳·帕德马纳班 ;

康文兵 ;

格奥尔格·帕夫洛夫斯基 ;

木村健 ;

田中初幸 .

中国专利 :CN1239557A ,1999-12-22

[6]

辐射吸收聚合物及含该聚合物的成膜组合物和抗反射涂层 [P].

康文兵 ;

常田明彦 ;

荒卷华世 ;

田中初幸 ;

木村健 .

中国专利 :CN1150219C ,1999-01-13

[7]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732A ,2024-12-20

[8]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732B ,2025-01-28

[9]

抗反射涂层组合物 [P].

高野祐辅 ;

田中初幸 ;

高野圣史 ;

桥本丰 .

中国专利 :CN1272864A ,2000-11-08

[10]

新型聚合物和聚合物组合物 [P].

亚历山大·马斯洛 ;

亚历山大·斯撤兰 ;

埃里克·亚历山大·比珀斯特 .

中国专利 :CN103764711A ,2014-04-30

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