一种含硅聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310427438.7

申请日：

2023-04-20

公开(公告)号：

CN116478328B

公开(公告)日：

2025-01-24

发明(设计)人：

马丽丽毛鸿超王静

申请人：

厦门恒坤新材料科技股份有限公司

申请人地址：

361027 福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号

IPC主分类号：

C08F230/08

IPC分类号：

C08F220/06 C08F220/18 C08F220/20 C08F220/32 G03F7/075 G03F7/004

代理机构：

厦门荔信律和知识产权代理有限公司 35282

代理人：

赖秀华

法律状态：

授权

国省代码：

福建省厦门市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种有机硅聚合物和含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用 [P].

马丽丽 ;

林国清 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

宋里千 .

中国专利 :CN119264435A ,2025-01-07

[2]

有机抗反射涂层聚合物、含该聚合物的抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

洪圣恩 ;

郑旼镐 ;

郑载昌 ;

李根守 ;

白基镐 .

中国专利 :CN1185268C ,2002-01-16

[3]

一种含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用 [P].

马丽丽 ;

林国清 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

宋里千 .

中国专利 :CN119331250A ,2025-01-21

[4]

一种自交联聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用 [P].

曾成财 ;

王静 .

中国专利 :CN117866135A ,2024-04-12

[5]

一种自交联聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用 [P].

曾成财 ;

王静 .

中国专利 :CN117866135B ,2025-01-24

[6]

底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

郑旼镐 ;

金喆禹 ;

咸珍守 ;

金仙珠 ;

朴明俊 ;

李濫揆 ;

李慧秀 .

中国专利 :CN110998446A ,2020-04-10

[7]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732A ,2024-12-20

[8]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732B ,2025-01-28

[9]

一种功能性聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

马丽丽 ;

王静 ;

毛鸿超 ;

宋里千 ;

肖楠 .

中国专利 :CN113929810A ,2022-01-14

[10]

底部抗反射涂层组合物和用于该组合物的新型聚合物染料 [P].

格奥尔格·帕夫洛夫斯基 ;

康文兵 ;

田中初幸 ;

木村健 ;

西胁良典 ;

穆尼拉斯娜·帕德马纳班 .

中国专利 :CN1273646A ,2000-11-15

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