一种含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411584398.8

申请日：

2024-11-07

公开(公告)号：

CN119331250A

公开(公告)日：

2025-01-21

发明(设计)人：

马丽丽林国清毛鸿超王静宋里千

申请人：

福建泓光半导体材料有限公司

申请人地址：

363118 福建省漳州市高新区九湖镇林前村林前773号

IPC主分类号：

C08G77/26

IPC分类号：

G02B1/111 G03F7/16 C08G77/24 G03F7/004

代理机构：

厦门荔信律和知识产权代理有限公司 35282

代理人：

赖秀华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

福建省漳州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C08G 77/26申请日:20241107
2025-01-21	公开	公开

共 50 条

[1]

一种有机硅聚合物和含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用 [P].

马丽丽 ;

林国清 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

宋里千 .

中国专利 :CN119264435A ,2025-01-07

[2]

一种含硅聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

马丽丽 ;

毛鸿超 ;

王静 .

中国专利 :CN116478328B ,2025-01-24

[3]

一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用 [P].

马丽丽 ;

王静 ;

毛鸿超 ;

宋里千 ;

肖楠 ;

林国清 .

中国专利 :CN120993675A ,2025-11-21

[4]

底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

陈鹏 ;

夏力 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN114384761A ,2022-04-22

[5]

一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

夏力 ;

马潇 ;

陈鹏 ;

许从应 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN114415473A ,2022-04-29

[6]

一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

夏力 ;

马潇 ;

陈鹏 ;

卢汉林 ;

许从应 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN114706273A ,2022-07-05

[7]

一种底部抗反射涂层及其制备方法和应用 [P].

方书农 ;

王溯 ;

耿志月 ;

唐晨 .

中国专利 :CN116102680B ,2024-02-13

[8]

一种处理含硅的底部抗反射涂层的方法 [P].

尹晓明 ;

安辉 .

中国专利 :CN102193318B ,2011-09-21

[9]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732A ,2024-12-20

[10]

光刻胶底部抗反射涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 [P].

付海超 ;

赵洪祥 ;

衣同兴 ;

孙铭鳌 ;

安延晓 .

中国专利 :CN119165732B ,2025-01-28

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