一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法

被引：0

申请号：

CN202111634798.1

申请日：

2021-12-29

公开(公告)号：

CN114415473A

公开(公告)日：

2022-04-29

发明(设计)人：

顾大公夏力马潇陈鹏许从应毛智彪

申请人：

申请人地址：

315800 浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

代理机构：

深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333

代理人：

左光明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-29	公开	公开
2022-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/09 申请日:20211229

共 50 条

[1]

底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

陈鹏 ;

夏力 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN114384761A ,2022-04-22

[2]

一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

顾大公 ;

夏力 ;

马潇 ;

陈鹏 ;

卢汉林 ;

许从应 ;

毛智彪 .

中国专利 :CN114706273A ,2022-07-05

[3]

一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法和应用 [P].

马丽丽 ;

王静 ;

毛鸿超 ;

宋里千 ;

肖楠 ;

林国清 .

中国专利 :CN120993675A ,2025-11-21

[4]

一种含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用 [P].

马丽丽 ;

林国清 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

宋里千 .

中国专利 :CN119331250A ,2025-01-21

[5]

一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法 [P].

王溯 ;

徐森 ;

耿志月 ;

薛新斌 .

中国专利 :CN120909068A ,2025-11-07

[6]

底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

郑旼镐 ;

金喆禹 ;

咸珍守 ;

金仙珠 ;

朴明俊 ;

李濫揆 ;

李慧秀 .

中国专利 :CN110998446A ,2020-04-10

[7]

一种含硅聚合物和底部抗反射涂层组合物及其制备方法 [P].

马丽丽 ;

毛鸿超 ;

王静 .

中国专利 :CN116478328B ,2025-01-24

[8]

一种底部抗反射涂层及其制备方法和应用 [P].

方书农 ;

王溯 ;

耿志月 ;

唐晨 .

中国专利 :CN116102680B ,2024-02-13

[9]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[10]

一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用 [P].

王溯 ;

徐森 ;

耿志月 ;

吕亚娟 .

中国专利 :CN120909070A ,2025-11-07

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