可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380027001.9

申请日：

2013-06-27

公开(公告)号：

CN104335079B

公开(公告)日：

2015-02-04

发明(设计)人：

陈光荣 S·霍尔梅斯黄武松 R·邝惠玲刘森

申请人：

申请人地址：

美国纽约

IPC主分类号：

G02B1111

IPC分类号：

B32B702 G03F7004

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

夏正东

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-06-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 1/111 申请日:20130627 授权公告日:20160113 终止日期:20190627
2016-01-13	授权	授权
2017-12-01	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G02B 1/111 登记生效日:20171113 变更事项:专利权人变更前权利人:国际商业机器公司变更后权利人:格芯美国第二有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:美国纽约变更后权利人:美国纽约
2017-12-01	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G02B 1/111 登记生效日:20171113 变更事项:专利权人变更前权利人:格芯美国第二有限责任公司变更后权利人:格芯公司变更事项:地址变更前权利人:美国纽约变更后权利人:开曼群岛大开曼岛
2015-03-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101600383945 IPC(主分类):G02B 1/11 专利申请号:2013800270019 申请日:20130627
2015-02-04	公开	公开

共 50 条

[1]

可显影的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

中杉茂正 ;

山本和磨 ;

秋山靖 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

S·查克拉帕尼 .

中国专利 :CN103998987B ,2014-08-20

[2]

采用包括光酸产生剂的抗反射涂层组合物的图案形成方法 [P].

姜智薰 ;

李惠元 ;

李承昱 ;

李淑 ;

林载峰 .

中国专利 :CN105223774B ,2016-01-06

[3]

底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物 [P].

郑旼镐 ;

金喆禹 ;

咸珍守 ;

金仙珠 ;

朴明俊 ;

李濫揆 ;

李慧秀 .

中国专利 :CN110998446A ,2020-04-10

[4]

顶部抗反射涂层组合物、形成图案的方法以及顶部抗反射涂层 [P].

仓本胜利 ;

小林政一 ;

秋山靖 .

中国专利 :CN101568991B ,2009-10-28

[5]

用于形成抗反射膜的组合物以及使用该组合物的图案形成方法 [P].

能谷刚 ;

秋山靖 ;

高野祐辅 .

中国专利 :CN101910946B ,2010-12-08

[6]

能显影的底部抗反射涂层 [P].

中杉茂正 ;

宫崎真治 ;

M·帕德马纳班 ;

A·D·迪奥塞斯 .

中国专利 :CN104736523A ,2015-06-24

[7]

上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

片山朋英 ;

佐尾高步 .

中国专利 :CN103460136A ,2013-12-18

[8]

细微抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

冈安哲雄 ;

关藤高志 ;

石井雅弘 .

中国专利 :CN103858058B ,2014-06-11

[9]

精细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

山本和磨 ;

石井雅弘 ;

关藤高志 ;

柳田浩志 ;

中杉茂正 ;

能谷刚 .

中国专利 :CN104737077A ,2015-06-24

[10]

微细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

山本和磨 ;

宫本义大 ;

关藤高志 ;

长原达郎 .

中国专利 :CN104995564B ,2015-10-21

← 1 2 3 4 5 →