上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280017938.3

申请日：

2012-04-11

公开(公告)号：

CN103460136A

公开(公告)日：

2013-12-18

发明(设计)人：

片山朋英佐尾高步

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

代理机构：

北京三幸商标专利事务所 11216

代理人：

刘激扬

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-04-22	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101713992965 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2012800179383 变更事项:申请人变更前权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社变更后权利人:默克专利有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本国东京都变更后权利人:德国达姆施塔特登记生效日:20150401
2014-01-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101562722995 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2012800179383 申请日:20120411
2013-12-18	公开	公开
2016-03-23	授权	授权

共 50 条

[1]

用于形成抗反射膜的组合物以及使用该组合物的图案形成方法 [P].

能谷刚 ;

秋山靖 ;

高野祐辅 .

中国专利 :CN101910946B ,2010-12-08

[2]

用于形成顶层抗反射膜的组合物以及使用该组合物的图案形成方法 [P].

秋山靖 ;

能谷刚 ;

仓本胜利 ;

高野祐辅 .

中国专利 :CN101849209A ,2010-09-29

[3]

上层膜形成用组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法 [P].

王晓伟 ;

铃木理人 ;

冈安哲雄 ;

G·鲍洛斯基 .

中国专利 :CN104919370B ,2015-09-16

[4]

细微抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

冈安哲雄 ;

关藤高志 ;

石井雅弘 .

中国专利 :CN103858058B ,2014-06-11

[5]

精细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

山本和磨 ;

石井雅弘 ;

关藤高志 ;

柳田浩志 ;

中杉茂正 ;

能谷刚 .

中国专利 :CN104737077A ,2015-06-24

[6]

微细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

山本和磨 ;

宫本义大 ;

关藤高志 ;

长原达郎 .

中国专利 :CN104995564B ,2015-10-21

[7]

下层膜形成用组合物及图案形成方法 [P].

能村仲笃 ;

今野洋助 ;

杉田光 ;

高桥纯一 .

中国专利 :CN101427183A ,2009-05-06

[8]

上层膜形成用组合物以及使用了其的抗蚀图案形成方法 [P].

王晓伟 ;

冈安哲雄 ;

G·帕夫洛夫斯基 ;

绢田贵史 .

中国专利 :CN105190441A ,2015-12-23

[9]

微细抗蚀图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法 [P].

长原达郎 ;

关藤高志 ;

山本和磨 ;

小林政一 ;

佐竹升 ;

石井雅弘 .

中国专利 :CN105103053B ,2015-11-25

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案的形成方法 [P].

境田康志 ;

西田登喜雄 ;

藤谷德昌 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN106233207A ,2016-12-14

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