精细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380051105.3

申请日：

2013-10-01

公开(公告)号：

CN104737077A

公开(公告)日：

2015-06-24

发明(设计)人：

山本和磨石井雅弘关藤高志柳田浩志中杉茂正能谷刚

申请人：

申请人地址：

卢森堡卢森堡

IPC主分类号：

G03F740

IPC分类号：

C08F1224 C08F2030 H01L21027

代理机构：

北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216

代理人：

刘淼

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101617854090 IPC(主分类):G03F 7/40 专利申请号:2013800511053 申请日:20131001
2015-06-24	公开	公开
2017-05-31	著录事项变更	著录事项变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101752156328 IPC(主分类):G03F 7/40 专利申请号:2013800511053 变更事项:申请人变更前:AZ电子材料(卢森堡)有限公司变更后:AZ电子材料(卢森堡)有限公司变更事项:地址变更前:卢森堡卢森堡变更后:卢森堡(L-1648)纪尧姆二世广场46号
2021-09-14	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/40 申请日:20131001 授权公告日:20190604 终止日期:20201001
2019-06-04	授权	授权

共 50 条

[1]

细微抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

冈安哲雄 ;

关藤高志 ;

石井雅弘 .

中国专利 :CN103858058B ,2014-06-11

[2]

微细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

山本和磨 ;

宫本义大 ;

关藤高志 ;

长原达郎 .

中国专利 :CN104995564B ,2015-10-21

[3]

微细抗蚀图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法 [P].

长原达郎 ;

关藤高志 ;

山本和磨 ;

小林政一 ;

佐竹升 ;

石井雅弘 .

中国专利 :CN105103053B ,2015-11-25

[4]

上层膜形成用组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法 [P].

王晓伟 ;

铃木理人 ;

冈安哲雄 ;

G·鲍洛斯基 .

中国专利 :CN104919370B ,2015-09-16

[5]

用于形成细微抗蚀图案的组合物和使用该组合物的图案形成方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN108351606A ,2018-07-31

[6]

抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用其的抗蚀剂图案的形成方法 [P].

西田登喜雄 ;

大西龙慈 ;

藤谷德昌 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN105579909A ,2016-05-11

[7]

抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法 [P].

金旻相 ;

金荷娜 ;

金惠兰 ;

都星安 ;

文勇勋 ;

安赞在 ;

李昶宪 ;

林圭铉 ;

A·田 ;

崔诚原 .

韩国专利 :CN120848109A ,2025-10-28

[8]

抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法 [P].

高行德 ;

郭允铉 ;

金美静 ;

南煐敏 ;

安赞在 ;

李昶宪 ;

林圭铉 ;

崔诚原 ;

韩盛现 .

韩国专利 :CN118259545A ,2024-06-28

[9]

上层膜形成用组合物以及使用了其的抗蚀图案形成方法 [P].

王晓伟 ;

冈安哲雄 ;

G·帕夫洛夫斯基 ;

绢田贵史 .

中国专利 :CN105190441A ,2015-12-23

[10]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

中村刚 ;

铃木阳介 ;

李俊烨 .

中国专利 :CN112654926A ,2021-04-13

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