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抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510527931.5
申请日：
2025-04-25
公开(公告)号：
CN120848109A
公开(公告)日：
2025-10-28
发明(设计)人：
金旻相 金荷娜 金惠兰 都星安 文勇勋 安赞在 李昶宪 林圭铉 A·田 崔诚原
申请人：
三星电子株式会社
申请人地址：
韩国京畿道
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
王华芹;金拟粲
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-10-28 公开 公开
共 50 条
[1]
抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法 [P]. 
李善英 ;
高行德 ;
郭允铉 ;
李智娟 ;
林圭铉 ;
全震洹 ;
蔡贞厦 ;
河旻永 .
韩国专利 :CN119937241A ,2025-05-06
[2]
抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法 [P]. 
高行德 ;
郭允铉 ;
金美静 ;
南煐敏 ;
安赞在 ;
李昶宪 ;
林圭铉 ;
崔诚原 ;
韩盛现 .
韩国专利 :CN118259545A ,2024-06-28
[3]
抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法 [P]. 
高行德 ;
郭允铉 ;
金范锡 ;
金惠兰 ;
李善英 ;
李智娟 ;
李昶宪 ;
全震洹 ;
蔡贞厦 ;
河旻永 .
韩国专利 :CN120928647A ,2025-11-11
[4]
抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法 [P]. 
林圭铉 ;
高行德 ;
郭允铉 ;
金范锡 ;
金畅基 ;
南英敏 ;
A·田 ;
全震洹 ;
河旻永 .
韩国专利 :CN120370623A ,2025-07-25
[5]
抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法 [P]. 
李昶宪 ;
高行德 ;
郭允铉 ;
金美静 ;
李善英 ;
林圭铉 ;
全震洹 ;
蔡贞厦 ;
韩盛现 .
韩国专利 :CN118689036A ,2024-09-24
[6]
抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法 [P]. 
蔡贞厦 ;
高行德 ;
郭允铉 ;
金美静 ;
李善英 ;
李智娟 ;
李昶宪 ;
全震洹 .
韩国专利 :CN119937244A ,2025-05-06
[7]
抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用其的抗蚀剂图案的形成方法 [P]. 
西田登喜雄 ;
大西龙慈 ;
藤谷德昌 ;
坂本力丸 .
中国专利 :CN105579909A ,2016-05-11
[8]
抗蚀剂组合物和图案形成方法 [P]. 
阿达铁平 ;
谷口良辅 ;
片山和弘 .
中国专利 :CN109324478A ,2019-02-12
[9]
抗蚀剂组合物和通过使用其形成图案的方法 [P]. 
高行德 ;
姜哲 ;
郭允铉 ;
金旻相 ;
李善英 ;
李昶宪 ;
林圭铉 ;
蔡贞厦 ;
韩盛现 .
韩国专利 :CN118259544A ,2024-06-28
[10]
抗蚀剂组合物和通过使用其形成图案的方法 [P]. 
高行德 ;
郭允铉 ;
金美静 ;
金旻相 ;
李善英 ;
李昶宪 ;
林圭铉 ;
蔡贞厦 ;
韩盛现 .
韩国专利 :CN118259546A ,2024-06-28
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